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碳納米管分散機(jī)

產(chǎn)品型號(hào)：

CMSD2000

品牌：

IKN

≧1 臺(tái)
￥109800.00

所在地：

上海松江區(qū)

更新日期：

2024-10-21

詳細(xì)信息

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碳納米管分散機(jī) ,納米管分散機(jī) .碳管分散機(jī) 是碳納米管應(yīng)用于導(dǎo)電涂料、導(dǎo)電油墨、導(dǎo)電膠、鋰離子電池電極材料及其它復(fù)合物中，開(kāi)發(fā)了高碳納米管含量、高流動(dòng)性的碳納米管漿料，是經(jīng)濟(jì)型的分散產(chǎn)品
碳納米管漿料由多壁碳納米管、碳納米管分散劑、液體介質(zhì)等三種成分組成，經(jīng)過(guò)特定的機(jī)械研磨設(shè)備和分散工藝，規(guī)�；厣a(chǎn)。
我們供貨的漿料，是以工業(yè)級(jí)多壁碳納米管TNIM8為原料，液體介質(zhì)包括：水、N,N-二甲基甲酰胺（DMF）、N-甲基吡咯烷酮（NMP）、異丙醇（IPA）、乙酸丁酯.

一、碳納米管分散技術(shù)三要素
二、分散劑用量推薦
三、碳納米管水分散劑（TNWDIS）概述
四、超聲波分散設(shè)備使用建議及分散實(shí)例
五、研磨分散設(shè)備使用建議
碳納米管分散技術(shù)三要素：分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備
1、分散介質(zhì)
（1）根據(jù)粘度不同，分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中，如水和有機(jī)溶劑，碳納米管易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹(shù)脂、液態(tài)硅橡膠等，高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料
（2）本PPT文件介紹的碳納米管分散技術(shù)，針對(duì)中、低粘度分散介質(zhì)
2、分散劑
（1）分散劑的選擇，與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)
（2）分散劑的用量，與碳納米管比表面積和共價(jià)鍵修飾的功能基團(tuán)有關(guān)
（3）水性介質(zhì)中，推薦使用TNWDIS。強(qiáng)極性有機(jī)溶劑中，如醇、DMF、NMP，推薦使用TNADIS。中等極性有機(jī)溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹(shù)脂、液態(tài)硅橡膠，推薦使用TNEDIS
3、分散設(shè)備
（1）超聲波分散設(shè)備：非常適合實(shí)驗(yàn)室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散碳納米管，用于中、高粘度介質(zhì)時(shí)會(huì)受到限制
（2）研磨分散設(shè)備：適合大規(guī)模地分散碳納米管、中粘度介質(zhì)分散碳納米管
（3）采用“先研磨分散、后超聲波分散”組合方法，可以高效、穩(wěn)定地分散碳納米管
分散劑用量推薦
1、碳納米管比表面積與分散劑用量
我們?cè)噭┘?jí)碳納米管分為單壁管（外徑＜2nm）和多壁管。多壁管根據(jù)外徑不同，分為TNM1（外徑＜8nm）、 TNM2 （外徑8-15nm）、 TNM3 （外徑10-20nm）、 TNM5 （外徑20-30nm）、 TNM7 （外徑30-50nm）、 TNM8 （外徑＞50nm）。隨著外徑的增加，碳納米管的比表面積減小

碳納米管分散機(jī) ,納米管分散機(jī) .碳管分散機(jī)

由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

研磨分散機(jī)	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	3000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	8000	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	20000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	40000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	80000	1,100	23	110	DN200/DN150
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到**大允許量的10%。