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    ITO納米高速分散機(jī)

    產(chǎn)品型號: ERS2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥198567.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-23
    詳細(xì)信息
    ITO納米高速分散機(jī)  ,ITO納米分散機(jī),氧化銦納米分散機(jī) 氧化錫納米分散機(jī)是的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是*重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,依肯公司在ER2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出ERS3000超高速分散機(jī)。其剪切速率可以超過100.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強(qiáng)粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度極高,無需其他輔助分散設(shè)備。


    ITO粉末為氧化銦和氧化錫的混合物,是一種新型的特殊功能陶瓷材料,通常是用電子束蒸發(fā)、物理氣相沉積、或者一些濺射沉積技術(shù)的方法沉積到表面,具有對可見光透明和導(dǎo)電的良好特性。
    在分散或研磨納米粉體的漿料時(shí),若不添加適當(dāng)?shù)谋砻娓馁|(zhì)劑,單靠研磨機(jī)的機(jī)械力量來做分散研磨,一般只能分散研磨到300 ~ 800 nm就無法再降低粒徑了,其原因是當(dāng)粒徑小于300 nm時(shí),粉體的比表面積急速上升且范德華力效應(yīng)加劇,此時(shí)粉體處于非常不穩(wěn)定且容易再凝聚的狀態(tài),即使聚集的粉體被磨球打開來了,也容易再凝聚,除非添加適當(dāng)?shù)谋砻娓馁|(zhì)劑,才可能繼續(xù)把粒徑下降到一次粒徑的大小。
    化學(xué)界面改質(zhì)劑的設(shè)計(jì)
    一般處理漿料表面的方法,由復(fù)雜交互的作用力,如靜電排斥力、立體排斥力及體積排除作用力等力形成固體或液體表面的穩(wěn)定狀態(tài),其目的不外乎是避免粉體再凝聚的產(chǎn)生,其中*簡單的方法是調(diào)整PH值,使納米粉體表面帶電荷,粉體與粉體間產(chǎn)生排斥力,然而,納米粉體因受限于*終產(chǎn)品應(yīng)用及配方的限制,適用此方法的應(yīng)用并不多;第二種常用的方法是依靠立體排斥作用力形成固體與固體,固體與液體間的穩(wěn)定狀態(tài),此方法*常選用高分子量的高分子或單體作分散劑,當(dāng)漿料的粒徑要求為微米或亞納米時(shí),此方法效果相當(dāng)好;但是分散或研磨漿料的粒徑要求小于100 nm時(shí),如果仍選用高分子量的高分子或單體作為分散劑,當(dāng)粉體被納米化時(shí),漿料內(nèi)的大部分體積已被高分子量的高分子或單體所形成的障礙物所占據(jù),此時(shí)漿料容易遇到下列的問題:
     固成分大幅降低,一般為35 % wt以下。
     漿料的粘度因而提高,不利于研磨機(jī)內(nèi)小磨球的運(yùn)動,導(dǎo)致*后的粒徑細(xì)度降不下來。
     粉體容易產(chǎn)生再凝聚的現(xiàn)象,導(dǎo)致納米現(xiàn)象無法產(chǎn)生,為了避免上述問題的產(chǎn)生,本文所介紹的化學(xué)機(jī)械工藝法,將選用較低分子量的功能劑來當(dāng)表面改質(zhì)劑。根據(jù)溶液化學(xué)的概念,較小分子量的化學(xué)鍵所形成的功能劑,會比較容易被接到納米粉體的表面上,(如圖4范例所示),所選用的界面改質(zhì)劑是低分子量的,且包含有機(jī)酸官能團(tuán)。
     
    原則上,所選用的界面改質(zhì)劑同時(shí)具有兩個(gè)官能團(tuán):一個(gè)官能團(tuán)被設(shè)計(jì)接到納米粉體表面,使納米粉體表面產(chǎn)生一個(gè)穩(wěn)定相,以避免粉體再凝聚的產(chǎn)生;另一個(gè)官能團(tuán)的設(shè)計(jì),要根據(jù)納米粉體所添加的界面(Matrix)而定,以避免不兼容現(xiàn)象的發(fā)生。因?yàn)榻缑娓馁|(zhì)工藝所采用的工具為濕法分散納米研磨設(shè)備,所以選用的界面改質(zhì)劑必須能夠與使用的溶劑兼容。盡管所選用的界面改質(zhì)劑的分子量很小,但仍可在納米粒子表面產(chǎn)生2 ~ 5 nm厚度的薄膜,足夠產(chǎn)生一個(gè)立體障礙并支撐納米粒子的穩(wěn)定性,相信根據(jù)這些原理量身打造的界面改質(zhì)劑,可以滿足下列要求:
     固體成分可以大大提高到35 ~ 45%以上。
     粒徑可以降到粉體一次粒徑大。ɡ10 nm左右)。
     漿料的粘滯性不再受粒子粒徑下降的影響而急速上升。
     粉體將不易產(chǎn)生再凝聚現(xiàn)象,即使添加到后段工藝仍為納米粒子。

    ITO納米高速分散機(jī)  ,ITO納米分散機(jī),氧化銦納米分散機(jī) 氧化錫納米分散機(jī)

    KN管線式高剪切乳化機(jī)(分散機(jī)、均質(zhì)機(jī))與臥式乳化機(jī)比較:
    轉(zhuǎn)速和剪切力:
    國內(nèi)乳化機(jī),3000/4700 RPM直聯(lián)電機(jī)的轉(zhuǎn)速決定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
    線速度:V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
    作用力:F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
    IKN高剪切乳化機(jī),9000/14000RPM通過皮帶加速
    線速度:V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
    作用力:F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
    這是乳化和均質(zhì)的重要因素,相當(dāng)于后者是前者的4-5倍
    設(shè)備設(shè)計(jì)構(gòu)造:
    國內(nèi)乳化機(jī),臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu),運(yùn)行時(shí)間長,容易造成軸的偏心,運(yùn)轉(zhuǎn)不正常,需要*的人員拆開內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
    IKN高剪切乳化機(jī),立式分體結(jié)構(gòu),運(yùn)行時(shí)間長,不易造成軸的偏心,容易更換,而且只要更換相應(yīng)的皮帶,一般的人員可以操作。
    密封:
    國內(nèi)乳化機(jī),填料密封或骨架密封,單機(jī)械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá),造成馬達(dá)燒毀
    IKN高剪切乳化機(jī),雙機(jī)械密封,易于清洗,將泄漏降至*低,可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn),特殊德國PDFE軸封,可以運(yùn)行10000小時(shí),可選擇德國高品質(zhì)機(jī)械密封,在一般的情況下,我們的機(jī)械密封可以*大承受16bar 壓力,根據(jù)機(jī)械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口*大壓力可以達(dá)到12-13 bar .
    產(chǎn)品效果:
    國內(nèi)乳化機(jī),粒徑細(xì)度有限,10微米以下較困難,重復(fù)性差,產(chǎn)品粒徑分布不均勻
    IKN高剪切乳化機(jī),可實(shí)現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工,粒徑分布均勻,納米級分散乳化
     
     
    當(dāng)用我們的設(shè)備好處是什么?效果好(研磨效果、均質(zhì)效果、分散效果、乳化效果……),速度快,效率高。每一臺設(shè)備都具有多功能改裝,根據(jù)不同的要求更換不同的模塊。還有什么???那就是能耗低,據(jù)用過依肯的設(shè)備客戶反應(yīng),就電費(fèi)就能省下不少。如何去選擇一臺合適的設(shè)備,一定會做一個(gè)明智的選擇!

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