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    納米膠體磨,納米高速膠體磨,德國(guó)納米膠體磨

    產(chǎn)品型號(hào): CMXD4000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺(tái)
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-12-16
    詳細(xì)信息
     型號(hào):CMXD4000  品牌:IKN  工作方式:顆粒研磨機(jī)  
     適用物料:食品,醫(yī)藥,化工  應(yīng)用領(lǐng)域:食品,醫(yī)藥,化工  加工批量:100  
     驅(qū)動(dòng)功率:30 kw 研磨籃容量:100  介質(zhì)尺寸:1-1-1  
     行程:10  外形尺寸:1-1-1 m 重量:400 kg 
     驅(qū)動(dòng)方式:電動(dòng)  作用對(duì)象:鋸刀  重量:400 kg 
    納米膠體磨,納米高速膠體磨,德國(guó)納米膠體磨,納米材料高速膠體磨,14000轉(zhuǎn)納米高速膠體磨,納米膠體磨是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

    納米研磨是顆粒細(xì)化到納米級(jí)后,其表面積累了大量的正、負(fù)電荷,納米顆粒的形狀極不規(guī)則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當(dāng)降至1nm時(shí),表面原子比例高達(dá)90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于高度活化狀態(tài),導(dǎo)致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學(xué)活性,表現(xiàn)出強(qiáng)烈的表面效應(yīng),很容易發(fā)生聚集而達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài),從而團(tuán)聚發(fā)生
    眾所周知納米氧化物極易產(chǎn)生自身的團(tuán)聚,使得應(yīng)有的性能難以充分發(fā)揮。此外,納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮,還取決于***大限度降低粉體與介質(zhì)間的表面張力。因此,納米氧化物粉體必須均勻分散,充分打開其團(tuán)聚體,才能發(fā)揮其應(yīng)有的奇異性能。 

    納米研磨效果影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

    2 膠體磨磨頭頭的剪切速率 (越大,效果越好)
    3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
    4 物料在研磨腔體的停留時(shí)間,研磨粉碎時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)
    5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

    線速度的計(jì)算
    剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。 
    剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
    g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
    由上可知,剪切速率取決于以下因素: 
    轉(zhuǎn)子的線速率
    在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
    IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 

    速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60


    粉碎研磨分散的本質(zhì)是通過(guò)能量的輸入使不相溶的兩相或多相達(dá)到互相包裹,近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過(guò)程。即形成乳液或懸浮液的條件是,在某一能量水平上, 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達(dá)到動(dòng)態(tài)的平衡。
    IKN膠體磨由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果
     
    為了達(dá)到巨大的能量輸入,IKN采用提高定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速的方法。在電機(jī)固定三千轉(zhuǎn)的前提下,我們采用立式的結(jié)構(gòu)通過(guò)皮帶加速達(dá)到15000轉(zhuǎn)。這很容易做到,但重要的是其它的部件能否能在高轉(zhuǎn)速下保持穩(wěn)定——軸承的強(qiáng)度夠不夠?機(jī)械密封會(huì)不會(huì)因?yàn)楫a(chǎn)生大量的熱而損毀泄露?主軸會(huì)不會(huì)偏振的很厲害,定轉(zhuǎn)子是否會(huì)發(fā)生摩擦?這些是IKN的關(guān)注點(diǎn),也應(yīng)該是廣大客戶在選型時(shí)應(yīng)該重視的幾個(gè)方面。


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    IKN納米膠體磨與國(guó)內(nèi)膠體磨的性能比較:
    一、轉(zhuǎn)速和剪切速率:IKN納米膠體磨,可選擇德國(guó)機(jī)械密封,轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000轉(zhuǎn)F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1國(guó)內(nèi)膠體磨,可選擇機(jī)械密封一般3000轉(zhuǎn),大約在14293-215440S-1通過(guò)轉(zhuǎn)速比較可知,這是乳粉碎研磨的重要因素,相當(dāng)于前者是后者的2-3倍

    二、膠體磨頭和間距:IKN納米膠體磨,可以選擇六種不同的模塊頭,實(shí)現(xiàn)多種功能,如三級(jí)乳化模塊,超高速模塊,CM膠體模塊,CMO膠體模塊,批次粉液液混合模塊,連續(xù)粉液混合模塊。間距可調(diào),可實(shí)現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工國(guó)內(nèi)膠體磨,只有一種模塊頭,粒徑細(xì)度有限,100微米以下較困難,重復(fù)性差
    三、機(jī)械密封:IKN納米膠體磨,雙機(jī)械密封,易于清洗,將泄漏降至***低,可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)國(guó)內(nèi)膠體磨,單機(jī)械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá),造成馬達(dá)燒毀

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    定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
    ②齒列的深度:從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。
    ③溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。


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