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    進口膠體磨,德國進口膠體磨

    產(chǎn)品型號: CM2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細信息
    進口膠體磨,德國進口膠體磨,進口高速膠體磨,14000轉(zhuǎn)進口膠體磨是轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。此款膠體磨比普通的膠體磨的速度達到4-5倍以上,分散乳化均質(zhì)研磨效果非常好。


    德國IKN制造,百年歷史,享譽全球。該系列產(chǎn)品真IP/SIP功能,符合美國3A 認證。機器加工實施嚴格的質(zhì)量控制,各部件經(jīng)久耐用,運行穩(wěn)定。在諸多跨國公司贏得極高贊譽,如巴斯夫,拜爾,德固賽,邱博,杜邦,英威達,羅地亞,羅蓋特,歐萊雅,寶潔,高露潔,雀巢,達能,喜力,GE,BP,SHELL,中石化,中石油,中科院,公司。

     CM2000/4實驗室膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。 CM2000/4實驗室膠體磨的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。 CM2000/4實驗室膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

          實驗室膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。 物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時,須選用壓力或輸送泵進料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。

          公司另外一項獨特的創(chuàng)新,就是錐體磨CMO2000系列,它的設(shè)計使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進了一步。由于這項創(chuàng)新,CMO2000能夠濕磨和研磨,產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級調(diào)節(jié),從而可以得到精確的研磨參數(shù)。研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質(zhì)材料,從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成,并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區(qū)域,可以輸送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和***后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。

    進口膠體磨,德國進口膠體磨和普通膠體磨區(qū)別
       IKN  CM2000系列膠體磨和其他設(shè)備的區(qū)別比較
     
      國內(nèi)***品牌  廊坊 IKN  上海依肯 國內(nèi)***品牌 七星
    型號 JMS 50
     
    CM2000/4 JM-FB60
    圖片
     
     
     
     
     
     
         
    材質(zhì) /304/316/316L 不銹鋼 316L不銹鋼(食品級) /304/316/316L 不銹鋼
    功率KW 1.1 KW 1.5/2.2/4 KW 對膠體磨而言,在很多場合下處理高粘度、大顆粒物料,所以一般選擇比較大的功率電機 1.1 KW
    轉(zhuǎn)速50HZ/87HZ
    轉(zhuǎn)速基本相同
    目前是不通過變頻器來調(diào)節(jié),若通過變頻調(diào)節(jié),同時他們的軸承不能承受高速運轉(zhuǎn)。一般在3000RPM
    這是由于膠體磨的內(nèi)部結(jié)構(gòu)及精密的程度決定的。
    9000/14000RPM 可以通過變頻調(diào)速
    通過皮帶加速 我們軸承可以承受140000RPM
    (轉(zhuǎn)速是他們的3-4倍,研磨的力度也是他們的3-4倍,這樣研磨的細度更小)
    目前是不通過變頻器來調(diào)節(jié),一般在3000RPM同時他們的軸承不能承受高速運轉(zhuǎn)。
    這是由于膠體磨的內(nèi)部結(jié)構(gòu)及精密的程度決定的。
    結(jié)構(gòu) 三道磨碎區(qū),一級為粗磨碎區(qū),二級為細磨碎區(qū),三級為超微磨碎區(qū)。 三道磨碎區(qū),一級為粗磨碎區(qū),二級為細磨碎區(qū),三級為超微磨碎區(qū)。
    雖然都是三級結(jié)構(gòu),但是他們的設(shè)計不同理念不同,形狀及齒列的結(jié)構(gòu)。
    三道磨碎區(qū),一級為粗磨碎區(qū),二級為細磨碎區(qū),三級為超微磨碎區(qū)。
    磨頭結(jié)構(gòu)
     
    IKN 有多種的膠體磨頭
     
     
     
     
     
     
    溝槽是直線,同級的溝槽深度一樣
     
     
     
    溝槽是曲線,上下深度不一,上深下淺
     
    CMO 磨頭
    配置有金屬碳化物或陶瓷涂層的錐型轉(zhuǎn)子/定子,具有良好的粉碎效果,耐磨及耐腐蝕。
     
     
     
     
     
     
     
     
     
     
     
     
     
    溝槽是直線,同級的溝槽深度一樣
     
    主要內(nèi)部結(jié)構(gòu)區(qū)別 我們的磨頭的結(jié)構(gòu):溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣,流道體積是一樣大,這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨,而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
    軸的振動偏差
    這個和高速運轉(zhuǎn)有相當大的影響。偏差越大,就需要磨頭的間歇越大,那么粉碎的效果越差。
    0.1mm(靜止) 0.01mm (靜止)
    這與設(shè)備的設(shè)計和零件的加工精度有關(guān)
    0.1mm(靜止)
    齒列的深度   從開始的2.7mm 到末端的0.7mm
    范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。
     
    ***大線速度
    如磨頭的相同直徑
     
    大約在10-15M/S V= 3.14X0.055X9000/60=25 M/S
    V=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
     
    大約在10-15M/S
    影響研磨效果因素 1 磨頭的形式(臥式和立式)
    2 磨頭頭的剪切速率
    3  磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(見磨頭結(jié)構(gòu))
    4 物料在磨頭墻體的停留時間,乳化分散時間
    5 循環(huán)次數(shù)
     
     
    研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
    1. 研磨速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
                    g -轉(zhuǎn)子 間距 (m)
    由上可知,研磨速率取決于以下因素:
    1. 磨頭的線速率
    2. 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 (相對而言)
    速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60
     
    2.2.1 漿料穩(wěn)定性理論
    大部分的漿料都是屬于懸浮液體系。不穩(wěn)定的懸浮液在靜止狀態(tài)下發(fā)生絮凝,并由于重力作用而很快分層,分散的目的就是要在產(chǎn)品的有效期內(nèi)抗絮凝、防止分層,維持懸浮顆粒的均勻分布,提高產(chǎn)品的穩(wěn)定性。
    2.2.1.1 懸浮液的絮凝理論
    絮凝作用即是在靜態(tài)(由于布朗運動)或動態(tài)(在剪切力作用下條件下,通過顆粒碰撞引起顆粒數(shù)目減少的過程。膠體系統(tǒng)中,如不考慮穩(wěn)定劑,顆粒間的相互作用主要有范德華(Vander Waals)引力;伴隨著帶電顆粒的庫侖(Coulombic)力(斥力或引力)。這些力的起因截然不同,Derjaguin Landau 在蘇聯(lián),Verwey Overbeek 在荷蘭分別獨立的提出 DLVO 理論,構(gòu)成了親液分散體系中絮凝作用經(jīng)典理論的基礎(chǔ),闡述了膠體懸浮體系的穩(wěn)定性主要與膠體顆粒間上述兩個獨立的相互作用的相對距離有關(guān)。
    2.2.1.2 懸浮液的分層理論
    分層是分散相在外力(重力或離心力)作用下,在連續(xù)相中上浮或下沉的結(jié)果。在忽略布朗運動效應(yīng)的靜態(tài)條件下,可用Stokes 定律來描述,即分散相球形顆粒由于重力的沉降速度 V 由下式確定:
     
    式中
    ρs -ρ為分散相與連續(xù)相的密度差,g 為重力加速度,d 為分散相顆粒直徑,μ為連續(xù)相的粘度。如果分散相顆粒的密度比連續(xù)相密度大,顆粒下沉,速度 V 為正值,反之,顆粒上浮,速度為負值。沉降速度大,漿料就容易分層。如果要保持體系穩(wěn)定,就必須降低沉降速度,對于特定的漿料可以通過減小分散相固體顆粒直徑 d。因為只有當粒徑減至連續(xù)相液體分子大小時,顆粒才能穩(wěn)定、均勻地分散在液體中不發(fā)生分離。
    通過以上的分析我們可以看出,要提高懸浮液的穩(wěn)定性,分散相顆粒的粒徑應(yīng)盡量細小。但應(yīng)該指出,根據(jù)前人所做的大量研究發(fā)現(xiàn),隨著顆粒粒度的減小,雖然顆粒由重力引起的分離作用變?yōu)榇我囊蛩,但是由于顆粒之間的間距減小,顆粒之間的結(jié)合力(范德華力等)起到了重要決定性作用。另外,當顆粒直徑小于某一細小尺寸時,此時,顆粒的布朗運動效應(yīng)就不能忽略了,所以由于細小顆粒的布朗運動,而使得顆粒之間產(chǎn)生激烈地碰撞。若不加穩(wěn)定劑,這些情況都會導致顆粒團聚,對體系的穩(wěn)定是不利的。所以漿料的分散中,顆粒粒徑并非越細越好,要視漿料的特性而定。分散就是要根據(jù)物料的特性與特點,減小分散相顆粒的粒度,使其分布于一個較窄的尺寸范圍,并達到吸力與斥力的相互平衡,從而保證漿料體系的穩(wěn)定。
    2.2.2 團聚與分散的關(guān)系
    漿料的團聚是指原生的微細顆粒在制備、分散及存放過程中,相互連接、由多個顆粒形成較大的顆粒團簇的現(xiàn)象。
    顆粒在液相介質(zhì)中表現(xiàn)為分散和團聚兩種基本的行為。顆粒在液體介質(zhì)中的團聚是吸附與排斥共同作用的結(jié)果,其根源是顆粒間的相互作用力。在懸濁液體系中,粉體顆粒的團聚是吸附和排斥共同作用的結(jié)果。如果吸附作用大于排斥作用,粉體顆粒團聚;如果吸附作用小于排斥作用,粉體顆粒則分散。在液體介質(zhì)中,粉體顆粒受力情況較復雜,不僅有像范德華力、靜電力、表面張力、毛細管力等產(chǎn)生團聚的吸引力,而且在粒子的表面,還會產(chǎn)生雙電層靜電作用、溶劑化膜作用、聚合物吸附層的空間保護作用等使納米顆粒趨向于分散的斥力作用。
     
    顆粒在介質(zhì)中的穩(wěn)定分散一般包括以下過程:潤濕、機械分散及分散穩(wěn)定。潤濕通常指顆粒與顆粒之間的界面被顆粒與溶劑、分散劑等界面所取代的過程。機械分散是利用剪切力將大量顆粒細化、使團聚體解聚、被潤濕、包裹吸附的過程。分散穩(wěn)定是指將原生粒子或較小的團聚體在靜電斥力、空間位阻斥力作用下來屏蔽范德華引力,使顆粒不再聚集的過程。團聚體分散解聚的直接原因是受到剪切力和壓力的作用,剪切力在分散過程中起到了決定性的作用。
    2.2.3 團聚體變形與破裂
    在研究流動性質(zhì)隨時間和應(yīng)力的變化時,一般要考察顆粒的結(jié)合與破裂。研究發(fā)現(xiàn),無論是顆粒的結(jié)合所必須得碰撞,還是多顆粒團的破壞,都與顆粒大小有緊密的函數(shù)關(guān)系,也就是說,顆粒大小是影響流變和穩(wěn)定性的一個關(guān)鍵因素.
    在層流狀態(tài)下,流體中的物料團聚體受層流剪切力作用。不考慮團聚體的重力作用,物料團聚體受剪切力t的作用與表面張力σ的作用。剪切作用的切向分tt的作用效果是使團聚體發(fā)生旋轉(zhuǎn)的主要原因,而法向分力tn和表面張力則在團聚體的內(nèi)部分別產(chǎn)生壓差,這兩種壓差綜合作用的結(jié)果就是使團聚體的內(nèi)部產(chǎn)生變形,在其原有裂紋的區(qū)域上就會產(chǎn)生應(yīng)力集中,并***終導致團聚體的破碎與分散,分解成更小尺寸級別的顆粒。
     
    在湍流狀態(tài)下,流場的變化非常迅速,且存在著固體分散相與液體連續(xù)相之間的相互作用,例如由于固體相對液體相湍流具有的阻尼作用,使其脈動強度降低,流場中流動情況相當復雜。所以為了簡化起見,在假定湍流是均勻的,并且是各向同性的基礎(chǔ)上,認為液滴的破裂由湍流的脈動效應(yīng)所引起的。在這種情況下,液滴受到的粘性剪切應(yīng)力可忽略,若兩相粘度和密度相差比較小,則在液滴表面將會產(chǎn)生振動,振動將會使其形狀相對于平衡的球形而發(fā)生變化,當變化的程度足夠大時,液滴就會不穩(wěn)定,破裂成兩個或更多的小液滴,條件是液滴振動的動能足以提供破裂后所增加的表面能.
     
     
    作用力
     
    大約在14293-215440 S-1 F=25/0.7X1000=32857 S-1  
    F=44/0.7/X1000=57142 S-1
     
    而對CMO模塊頭,磨頭的間歇G理論可以無限小,但是由于高速的運轉(zhuǎn),造成軸的振動,需要一定的間歇,作用力可以無限大。但實際上比膠體磨要好。
     
    這是乳粉碎研磨的重要因素,相當于后者是前者的2-3
    大約在14293-215440 S-1
    流量 5-30KG/H 0-50 KG/H 10-50KG/H
    腔體夾套   有,可以進行加熱或冷卻  
    速度調(diào)節(jié) 可以添加變頻器 進口DANFOS變頻器 可以添加變頻器
    出入口 快接,法蘭,螺紋選擇 快接,法蘭,螺紋選擇 快接,法蘭,螺紋選擇
    體積 較大,
     
    適中 較大
    電機 國內(nèi)和ABB 電機 進口ABB  電機 國內(nèi)和ABB 電機
    設(shè)計 分體設(shè)計 目前流行的分體設(shè)計 目前流行的分體設(shè)計和臥室設(shè)計
    密封  
    可選擇機械密封一般3000轉(zhuǎn)
    可選擇德國機械密封,
    轉(zhuǎn)速可以達到15000轉(zhuǎn)
     
    可選擇機械密封一般3000轉(zhuǎn)
    機械密封的使用壽命因素 在一般的情況下,我們的機械密封可以***大承受16bar 壓力,根據(jù)機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口***大壓力可以達到12-13 bar .
     
    同時機械密封的使用壽命和以下因素有關(guān):
     
    滿足以下條件使得機械密封的使用壽命更長:
    • 可允許的壓力比率
    • 充份的冷卻和濕度
    • 材料的合適搭配.
     
    機械密封本身會產(chǎn)生磨損和破裂. 磨損得主要原因是:
    • 壓力差
    • 溫度
    • 分散物料的腐蝕性
    • 密封的材料
     
    模塊頭 只有一種模塊頭 可以選擇六種不同的模塊頭,實現(xiàn)多種功能,如三級乳化模塊,超高速模塊,CM膠體模塊,CMO膠體模塊,批次粉液液混合模塊,連續(xù)粉液混合模塊。
     
    跟換磨頭可以作為均質(zhì)機使用。
     
      膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。 
    只有一種模塊頭
        IKN 膠體磨 國產(chǎn)膠體磨
    衛(wèi)生認證   通過國際3A衛(wèi)生認證,設(shè)計符合FDA、EHEDG標準要求,更加適合出口藥品使用 以國內(nèi)GMP為主,內(nèi)銷為主
    機器材質(zhì)   與產(chǎn)品接觸部分均由不銹鋼316TL制成,包括研磨刀頭,為德國進口鋼材,耐磨性更強,產(chǎn)品穩(wěn)定性更好 一般為國內(nèi)304或者316制成,使用后,刀頭易于磨損,產(chǎn)品參數(shù)重復性不強
    產(chǎn)品效果   間距可調(diào),可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工 粒徑細度有限,100微米以下較困難,重復性差
    密封類型   雙機械密封,易于清洗,將泄漏降至***低,可24小時不停運轉(zhuǎn) 單機械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進入馬達,造成馬達燒毀
    工作腔體方式   立式,皮帶驅(qū)動,易于維護,可有效保護馬達及齒輪箱,防止損壞
    符合流體流動原理,易于清洗
    臥式或立式(馬達一體式),軸承部分受力較大,易于損壞,維護保養(yǎng)復雜,清洗苦難
    清洗   具有CIP/SIP在線清洗,在線殺菌功能,無需拆卸,機器設(shè)計無死角,立式結(jié)構(gòu)符合流體流動原理,清洗更簡便 通常情況,需要拆卸機器進行清洗
    概述   公司100年的歷史,經(jīng)驗豐富,如使用得當,IKN 機器使用壽命很長,故障率低,穩(wěn)定性強,國內(nèi)組裝,進口品質(zhì),實惠價格 投資價格雖便宜,產(chǎn)品設(shè)計不成熟,使用中故障較多,費時費力費料費財
    價格RMB   88000  
    保質(zhì)期 1 1 1
     
    進口膠體磨,德國進口膠體磨,14000轉(zhuǎn)進口膠體磨
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