雙級(jí)剪切式膠體磨,改進(jìn)型膠體磨,乳化膠體磨,均質(zhì)膠體磨IKN膠體磨CMSD2000膠體磨 是電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱(chēng)為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱(chēng)為定子）作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

雙級(jí)剪切式膠體磨,改進(jìn)型膠體磨,乳化膠體磨,均質(zhì)膠體磨IKN膠體磨CMSD2000膠體磨
磨是一種雙級(jí)剪切式膠體磨，是由于剪切機(jī)、粉碎機(jī)、膠體磨等組合而成的一種高科技先進(jìn)設(shè)備，主要適用于各種物料的粉碎、分散、乳化、均質(zhì)*小細(xì)度可達(dá)0.5µm左右。

雙級(jí)剪切式膠體磨,改進(jìn)型膠體磨,乳化膠體磨,均質(zhì)膠體磨IKN膠體磨CMSD2000膠體磨 雙級(jí)剪切式膠體磨但是針對(duì)在流體中的尚未分散的分散相顆粒以及不溶性液滴，必須采用有著越強(qiáng)性能的粉碎膠體磨來(lái)完成，讓這些小顆粒重新進(jìn)入更精密，更狹窄，更先進(jìn)的多層次的凹凸迷宮中式粉碎區(qū)域內(nèi)進(jìn)行分散研磨，并且要承受凹凸磨幾千刀片相對(duì)高速運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)形成的高頻摩擦、劇烈震蕩以及湍流，從而產(chǎn)生強(qiáng)大的沖出波及超聲波，使液滴分子鏈液斷裂、顆粒破碎、液粒撕碎等工藝要求，從而使物料顆粒細(xì)化度越磨越細(xì)、分散乳化效果越磨越好。產(chǎn)品穩(wěn)定性越好，儲(chǔ)存時(shí)間越長(zhǎng)。

雙級(jí)剪切式膠體磨但是針對(duì)在流體中的尚未分散的分散相顆粒以及不溶性液滴，必須采用有著越強(qiáng)性能的粉碎膠體磨來(lái)完成，讓這些小顆粒重新進(jìn)入更精密，更狹窄，更先進(jìn)的多層次的凹凸迷宮中式粉碎區(qū)域內(nèi)進(jìn)行分散研磨，并且要承受凹凸磨幾千刀片相對(duì)高速運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)形成的高頻摩擦、劇烈震蕩以及湍流，從而產(chǎn)生強(qiáng)大的沖出波及超聲波，使液滴分子鏈液斷裂、顆粒破碎、液粒撕碎等工藝要求，從而使物料顆粒細(xì)化度越磨越細(xì)、分散乳化效果越磨越好。產(chǎn)品穩(wěn)定性越好，儲(chǔ)存時(shí)間越長(zhǎng)

是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿(mǎn)足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

雙級(jí)剪切式膠體磨,改進(jìn)型膠體磨,乳化膠體磨,均質(zhì)膠體磨IKN膠體磨CMSD2000膠體磨

研磨分散機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域： 化學(xué)工業(yè)：油漆、顏料、染料、涂料、潤(rùn)滑油、潤(rùn)滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑，石墨烯，碳納米管，富勒烯，凝膠，溶膠，壓裂液 催化劑 纖維  等。  食品工業(yè)：蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品，麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬，蛋黃醬，沙拉醬，奶酪 食用菌絲，大豆蛋白粉 豆粕等 日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級(jí)化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。 醫(yī)藥工業(yè)：各型糖漿、營(yíng)養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚(yú)肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮，膠囊，微球，口服混懸液，動(dòng)物組織破壁，纖維素 等。  建筑工業(yè)：各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。  其它工業(yè)：塑料工業(yè)、紡織工業(yè)、造紙工業(yè)、煤炭浮選劑、納米材料等行業(yè)優(yōu)質(zhì)環(huán)保的生產(chǎn)需要 。 新能源材料：石墨烯、石墨烯涂料、石墨烯超級(jí)電容、石墨烯潤(rùn)滑油、  碳納米管 、碳纖維、   鋰電池漿料、電池隔膜 潤(rùn)滑油等等

設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē)
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機(jī)	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類(lèi)型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	700	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	3000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	8000	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	20000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	40000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	80000	1,100	23	110	DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產(chǎn)品的要求。
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