是研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹(shù)脂等包覆住，以便達(dá)到顆粒完全被分離（separating）、潤(rùn)濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

氧化石墨烯氧化石墨烯(graphene oxide )是石墨烯的氧化物，其顏色為棕黃色，市面上常見(jiàn)的產(chǎn)品有粉末狀、片狀以及溶液狀的。因經(jīng)氧化后，其上含氧官能團(tuán)增多而使性質(zhì)較石墨烯更加活潑，可經(jīng)由各種與含氧官能團(tuán)的反應(yīng)而改善本身性質(zhì)。

氧化石墨烯一般由石墨經(jīng)強(qiáng)酸氧化而得。主要有三種制備氧化石墨的方法：Brodie法，Staudenmaier法和Hummers法。其中Hummers法的制備過(guò)程的時(shí)效性相對(duì)較好而且制備過(guò)程中也比較安全，是目前*常用的一種。它采用濃硫酸中的高錳酸鉀與石墨粉末經(jīng)氧化反應(yīng)之后，得到棕色的在邊緣有衍生羧酸基及在平面上主要為酚羥基和環(huán)氧基團(tuán)的石墨薄片，此石墨薄片層可以經(jīng)超聲或高剪切劇烈攪拌剝離為氧化石墨烯，并在水中形成穩(wěn)定、淺棕黃色的單層氧化石墨烯懸浮液。由于共軛網(wǎng)絡(luò)受到嚴(yán)重的官能化，氧化石墨烯薄片具有絕緣的特質(zhì)。經(jīng)還原處理可進(jìn)行部分還原，得到化學(xué)修飾的石墨烯薄片。雖然*后得到的石墨烯產(chǎn)物或還原氧化石墨烯都具有較多的缺陷，導(dǎo)致其導(dǎo)電性不如原始的石墨烯，不過(guò)這個(gè)氧化−剝離−還原的制程可有效地讓不可溶的石墨粉末在水中變得可加工，提供制作還原氧化石墨烯的途徑。而且其簡(jiǎn)易的制程及其溶液可加工性，考慮量產(chǎn)的工業(yè)制程中，上述工藝已成為制造石墨烯相關(guān)材料及組件的極具吸引力的工藝過(guò)程。

氧化石墨烯漿料研磨分散機(jī)  是當(dāng)前主要瓶頸有兩點(diǎn)，一是低成本高品質(zhì)石墨烯原料的規(guī)�；�生產(chǎn)，二是石墨烯的商業(yè)化應(yīng)用。有人可能覺(jué)得第  一個(gè)已不是問(wèn)題，因?yàn)橐延卸鄠�(gè)十噸乃至百?lài)嵓?jí)產(chǎn)線(xiàn)投產(chǎn)，規(guī)�；�看似已迎刃而解。事實(shí)真是如此嗎？除了產(chǎn)能，我認(rèn)為更重要的是品質(zhì)，因?yàn)樵�料的品質(zhì)直接決定其應(yīng)用屬性。對(duì)于實(shí)際應(yīng)用，純度是否足夠高？批次穩(wěn)定性如何？成本是否還有壓縮空間？生產(chǎn)過(guò)程可否更綠色？技術(shù)的進(jìn)步永無(wú)止境，可靠的原料永遠(yuǎn)是石墨烯產(chǎn)業(yè)化的基石。

氧化石墨烯漿料研磨分散機(jī) 

研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。

分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹(shù)脂等包覆住，以便達(dá)到顆粒完全被分離（separating）、潤(rùn)濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

在做納米粉體分散或研磨時(shí)，因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過(guò)程中，范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心�機(jī)來(lái)控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
    

  磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。 

    *級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿(mǎn)足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線(xiàn)速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國(guó)先進(jìn)的高速研磨分散技術(shù)，通過(guò)超高
轉(zhuǎn)速（*高可達(dá)14000rpm）帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配CM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線(xiàn)速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細(xì)的顆粒（當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。

技術(shù)及價(jià)格咨詢(xún)請(qǐng)來(lái)電：  ，公司有樣機(jī)可供客戶(hù)實(shí)驗(yàn)，歡迎廣大客戶(hù)來(lái)我司參觀(guān)指導(dǎo)！我司有著豐富的石墨烯研磨經(jīng)驗(yàn)，跟常州、無(wú)錫、長(zhǎng)春、寧波、濰坊、深圳、廈門(mén)、東莞等地大型鋰電石墨烯、碳納米管生產(chǎn)企業(yè)有著深度合作。歡迎您的來(lái)電！

     研磨時(shí)間對(duì)粉體產(chǎn)品細(xì)度的影響一般而言，研磨時(shí)間越長(zhǎng)，則研磨效果越好，

    但顆粒的細(xì)化達(dá)到一定程度則很難再進(jìn)一步細(xì)化。因?yàn)殡S著顆粒粒度的減小，比表面積迅速增大，顆粒表面激活點(diǎn)增多，表面自由能增大，體系處于極不穩(wěn)定狀態(tài)，微細(xì)顆粒間則彼此團(tuán)聚形成“假顆粒”，以降低比表面積；若再延長(zhǎng)研磨時(shí)間，輸入體系的能量則用于粉碎“假顆粒”，“假顆粒”粉碎后又很快重新團(tuán)聚，整個(gè)體系處于團(tuán)聚—磨細(xì)的動(dòng)態(tài)

氧化石墨烯漿料研磨分散機(jī)   

是研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹(shù)脂等包覆住，以便達(dá)到顆粒完全被分離（separating）、潤(rùn)濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

氧化石墨烯氧化石墨烯(graphene oxide )是石墨烯的氧化物，其顏色為棕黃色，市面上常見(jiàn)的產(chǎn)品有粉末狀、片狀以及溶液狀的。因經(jīng)氧化后，其上含氧官能團(tuán)增多而使性質(zhì)較石墨烯更加活潑，可經(jīng)由各種與含氧官能團(tuán)的反應(yīng)而改善本身性質(zhì)。

氧化石墨烯一般由石墨經(jīng)強(qiáng)酸氧化而得。主要有三種制備氧化石墨的方法：Brodie法，Staudenmaier法和Hummers法。其中Hummers法的制備過(guò)程的時(shí)效性相對(duì)較好而且制備過(guò)程中也比較安全，是目前*常用的一種。它采用濃硫酸中的高錳酸鉀與石墨粉末經(jīng)氧化反應(yīng)之后，得到棕色的在邊緣有衍生羧酸基及在平面上主要為酚羥基和環(huán)氧基團(tuán)的石墨薄片，此石墨薄片層可以經(jīng)超聲或高剪切劇烈攪拌剝離為氧化石墨烯，并在水中形成穩(wěn)定、淺棕黃色的單層氧化石墨烯懸浮液。由于共軛網(wǎng)絡(luò)受到嚴(yán)重的官能化，氧化石墨烯薄片具有絕緣的特質(zhì)。經(jīng)還原處理可進(jìn)行部分還原，得到化學(xué)修飾的石墨烯薄片。雖然*后得到的石墨烯產(chǎn)物或還原氧化石墨烯都具有較多的缺陷，導(dǎo)致其導(dǎo)電性不如原始的石墨烯，不過(guò)這個(gè)氧化−剝離−還原的制程可有效地讓不可溶的石墨粉末在水中變得可加工，提供制作還原氧化石墨烯的途徑。而且其簡(jiǎn)易的制程及其溶液可加工性，考慮量產(chǎn)的工業(yè)制程中，上述工藝已成為制造石墨烯相關(guān)材料及組件的極具吸引力的工藝過(guò)程。

氧化石墨烯漿料研磨分散機(jī)  是當(dāng)前主要瓶頸有兩點(diǎn)，一是低成本高品質(zhì)石墨烯原料的規(guī)�；�生產(chǎn)，二是石墨烯的商業(yè)化應(yīng)用。有人可能覺(jué)得第  一個(gè)已不是問(wèn)題，因?yàn)橐延卸鄠�(gè)十噸乃至百?lài)嵓?jí)產(chǎn)線(xiàn)投產(chǎn)，規(guī)�；�看似已迎刃而解。事實(shí)真是如此嗎？除了產(chǎn)能，我認(rèn)為更重要的是品質(zhì)，因?yàn)樵�料的品質(zhì)直接決定其應(yīng)用屬性。對(duì)于實(shí)際應(yīng)用，純度是否足夠高？批次穩(wěn)定性如何？成本是否還有壓縮空間？生產(chǎn)過(guò)程可否更綠色？技術(shù)的進(jìn)步永無(wú)止境，可靠的原料永遠(yuǎn)是石墨烯產(chǎn)業(yè)化的基石。

氧化石墨烯漿料研磨分散機(jī) 

研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。

分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹(shù)脂等包覆住，以便達(dá)到顆粒完全被分離（separating）、潤(rùn)濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

在做納米粉體分散或研磨時(shí)，因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過(guò)程中，范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心�機(jī)來(lái)控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
    

  磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。 

    *級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿(mǎn)足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線(xiàn)速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國(guó)先進(jìn)的高速研磨分散技術(shù)，通過(guò)超高
轉(zhuǎn)速（*高可達(dá)14000rpm）帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配CM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線(xiàn)速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細(xì)的顆粒（當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。

技術(shù)及價(jià)格咨詢(xún)請(qǐng)來(lái)電：  ，公司有樣機(jī)可供客戶(hù)實(shí)驗(yàn)，歡迎廣大客戶(hù)來(lái)我司參觀(guān)指導(dǎo)！我司有著豐富的石墨烯研磨經(jīng)驗(yàn)，跟常州、無(wú)錫、長(zhǎng)春、寧波、濰坊、深圳、廈門(mén)、東莞等地大型鋰電石墨烯、碳納米管生產(chǎn)企業(yè)有著深度合作。歡迎您的來(lái)電！

     研磨時(shí)間對(duì)粉體產(chǎn)品細(xì)度的影響一般而言，研磨時(shí)間越長(zhǎng)，則研磨效果越好，

    但顆粒的細(xì)化達(dá)到一定程度則很難再進(jìn)一步細(xì)化。因?yàn)殡S著顆粒粒度的減小，比表面積迅速增大，顆粒表面激活點(diǎn)增多，表面自由能增大，體系處于極不穩(wěn)定狀態(tài)，微細(xì)顆粒間則彼此團(tuán)聚形成“假顆粒”，以降低比表面積；若再延長(zhǎng)研磨時(shí)間，輸入體系的能量則用于粉碎“假顆粒”，“假顆粒”粉碎后又很快重新團(tuán)聚，整個(gè)體系處于團(tuán)聚—磨細(xì)的動(dòng)態(tài)

氧化石墨烯漿料研磨分散機(jī)  氧化石墨烯漿料研磨分散機(jī),氧化石墨烯,石墨烯漿料研磨分散機(jī),Brodie法，Staudenmaier法和Hummers法漿料研磨分散機(jī)