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硫酸頭孢喹肟研磨分散機(jī)
詳細(xì)信息型號(hào):CMSD2000 品牌:IKN 工作方式:顆粒研磨機(jī) 適用物料:醫(yī)藥 應(yīng)用領(lǐng)域:醫(yī)藥 加工批量:1000 驅(qū)動(dòng)功率:30 kw 研磨籃容量:1000 介質(zhì)尺寸:100 行程:10 外形尺寸:1-1-1 m 重量:400 kg 驅(qū)動(dòng)方式:電動(dòng) 作用對(duì)象:鋸刀 重量:400 kg 酸頭孢喹肟研磨機(jī),硫酸頭孢喹肟均質(zhì)機(jī)是當(dāng)固體顆粒分散到一種液體中時(shí),形成一種懸浮液。當(dāng)一種液體分散到另一種液體中時(shí),形成一種乳濁液。在一種乳濁液的兩個(gè)液相間的界面處,表面張力開始發(fā)生作用。新表面的產(chǎn)生需要能量。在沒有外部影響的情況下,每個(gè)液相體系均企圖以較少的能量達(dá)到乳濁液狀態(tài)。
硫酸頭孢喹肟的工藝要求
*終產(chǎn)品: 混懸液
用途: 混懸液
工藝要求: 與藥物接觸部分為
原材料: 硫酸頭孢喹肟
液體(%): 三乙酸甘油酯、氫化蓖麻油、丙二醇
固體(%): 硫酸頭孢喹肟
密度(kg/m3): 1.05 溫度(℃): 35
將頭孢喹肟原料藥加入至乳化罐,加適量三乙酸甘油酯,經(jīng)研磨分散機(jī)進(jìn)行分散均勻,加入丙二醇,混合均勻。
硫酸頭孢喹肟研磨分散機(jī)的效果
ρs -ρ為分散相與連續(xù)相的密度差,g 為重力加速度,d 為分散相顆粒直徑,μ為連續(xù)相的粘度。如果分散相顆粒的密度比連續(xù)相密度大,顆粒下沉,速度 V 為正值,反之,顆粒上浮,速度為負(fù)值。沉降速度大,漿料就容易分層。如果要保持體系穩(wěn)定,就必須降低沉降速度,對(duì)于特定的漿料可以通過減小分散相固體顆粒直徑 d。因?yàn)橹挥挟?dāng)粒徑減至連續(xù)相液體分子大小時(shí),顆粒才能穩(wěn)定、均勻地分散在液體中不發(fā)生分離。
通過以上的分析我們可以看出,要提高懸浮液的穩(wěn)定性,分散相顆粒的粒徑應(yīng)盡量細(xì)小。但應(yīng)該指出,根據(jù)前人所做的大量研究發(fā)現(xiàn),隨著顆粒粒度的減小,雖然顆粒由重力引起的分離作用變?yōu)榇我囊蛩,但是由于顆粒之間的間距減小,顆粒之間的結(jié)合力(范德華力等)起到了重要決定性作用。另外,當(dāng)顆粒直徑小于某一細(xì)小尺寸時(shí),此時(shí),顆粒的布朗運(yùn)動(dòng)效應(yīng)就不能忽略了,所以由于細(xì)小顆粒的布朗運(yùn)動(dòng),而使得顆粒之間產(chǎn)生激烈地碰撞。若不加穩(wěn)定劑,這些情況都會(huì)導(dǎo)致顆粒團(tuán)聚,對(duì)體系的穩(wěn)定是不利的。所以漿料的分散中,顆粒粒徑并非越細(xì)越好,要視漿料的特性而定。分散就是要根據(jù)物料的特性與特點(diǎn),減小分散相顆粒的粒度,使其分布于一個(gè)較窄的尺寸范圍,并達(dá)到吸力與斥力的相互平衡,從而保證漿料體系的穩(wěn)定。
影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)由上可知,剪切速率取決于以下因素:
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是*重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,依肯公司在ERS2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出ERX2000超高速剪切乳化機(jī)機(jī)。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。
磨分散機(jī)
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
CMD 2000/4
300
9,000
23
2.2
DN25/DN15
CMD 2000/5
3000
6,000
23
7.5
DN40/DN32
CMD 2000/10
8000
4,200
23
22
DN80/DN65
CMD 2000/20
20000
2,850
23
37
DN80/DN65
CMD 2000/30
40000
1,420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
120000
1,100
23
110
DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產(chǎn)品的要求。
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