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石墨烯銀漿研磨分散機,石墨烯銀漿分散設備
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1.銀漿系由高純度的(99.9% )金屬銀的微粒、粘合劑、溶劑、助劑所組成的一種機械混和物的粘稠狀的漿料。導電銀漿對其組成物質(zhì)要求是十分嚴格的。其品質(zhì)的高低、含量的多少,以及形狀、大小對銀漿性能都有著密切關系。
2.如何把石墨烯分散在銀漿里面,讓銀漿的性能得到充分發(fā)揮。石墨烯的分散有著至關重要的作用。
3.IKN石墨烯研磨設備采用德國的高速研磨分散技術,通過超高轉(zhuǎn)速(可達14000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配CM 8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3mm之間)使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊,破碎,研磨,分散,均質(zhì),從而得出超細的顆粒(當然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點可以得出理想的石墨烯銀漿漿料。
4.IKN設備客戶群:我司有著豐富的石墨烯研磨經(jīng)驗,跟常州,無錫,長春,寧波,濰坊,深圳,廈門,東莞等地大型鋰電石墨烯,碳納米管生產(chǎn)企業(yè)有著深度合作。經(jīng)過長期的努力,我們的設備已經(jīng)具有相當優(yōu)勢,部分國外客戶已購買我們的產(chǎn)品。更多詳細資料請來電咨詢。
5.IKN如何解決工藝難題:在研究石墨烯的過程中,如何將石墨更好的細化,以及細化后團聚問題的解決,成為的的難點。
上海依肯CMD2000系列研磨分散機,可以很好的解決這兩個問題。CMD2000系列的膠體磨(錐體磨)分散頭的組合,可以先將石墨混合物(配入溶劑和分散劑)研磨細化,然后再經(jīng)過分散頭,進行分散。這樣既可以細化又可以避免團聚的現(xiàn)象,為石墨烯行業(yè)提供了強有力的設備力量。
6.CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。7.石墨烯研磨分散設備在設計上的突出特點:
1)轉(zhuǎn)速14000rpm相較其它廠家2900轉(zhuǎn)左右高出約4-5倍:
2)磨頭結(jié)構更精密并有獨特設計,使之研磨作用力更大,效果更好。
3)德國進口雙端面機械密封擁有獨特結(jié)構和特殊材質(zhì)保證高速運轉(zhuǎn)和長使用壽命。
4)CMD2000/5中試型研磨機與大型工業(yè)管線式量產(chǎn)機型配置基本相同。各種工作頭的種類及相應線速度相同,中試過程中的工藝參數(shù)在工業(yè)化后之后不用重新調(diào)整,從而將機器型號升級到工業(yè)化的過程中的風險降到*低。
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8.石墨烯研磨分散設備的技術參數(shù):
型號
流量
L/H
轉(zhuǎn)速
rpm
線速度
m/s
功率
kw
入/出口連接
DN
CMD2000/4
300
9000
23
2.2
DN25/DN15
CMD2000/5
1000
6000
23
7.5
DN40/DN32
CMD2000/10
2000
4200
23
22
DN80/DN65
CMD2000/20
5000
2850
23
37
DN80/DN65
CMD2000/30
8000
1420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
15000
1100
23
110
DN200/DN150
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到允許量的10%。
1)表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2)處理量取決于物料的粘度,稠度和終產(chǎn)品的要求。
3)如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型和定制。
4)本表的數(shù)據(jù)因技術改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準.
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