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醫(yī)藥二氧化鈦研磨分散機(jī)
詳細(xì)信息品牌:IKN 型號(hào):CMD2000 工作方式:顆粒研磨機(jī) 類(lèi)型:轉(zhuǎn)軸式研磨機(jī) 適用物料:乳化液,懸浮液 應(yīng)用領(lǐng)域:醫(yī)藥 加工批量:100 驅(qū)動(dòng)功率:2.2 kw 研磨籃容量:2 L 介質(zhì)尺寸:0.2 mm 行程:2000 mm 外形尺寸:500*230 m 重量:230 行程:2000 mm 外形尺寸:500*230 m
二氧化鈦作為藥用白色顏料,具有優(yōu)異顏料性能有害雜質(zhì)的含量低,適合制造不透明膠囊、片劑薄膜包衣、霜?jiǎng)、藥用包裝材料、藥用油墨,具有粒度均勻,分散性好的優(yōu)點(diǎn),去粒子水和明膠中分散良好,無(wú)絮凝沉淀物。
藥物制劑中,可作為白色著色劑制備薄膜包衣混懸液,糖包衣和明膠膠囊劑,也可與其它著色劑混合使用,應(yīng)用于皮膚用制劑,也可取代淀粉用做藥物的賦型劑。
國(guó)內(nèi)研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速通常只有3000轉(zhuǎn),在分散時(shí)不能有效的解決團(tuán)聚問(wèn)題,導(dǎo)致顆粒性狀不明顯。Ikn公司有著幾十年的技術(shù)沉淀,專(zhuān)門(mén)研發(fā)了14000轉(zhuǎn)的研磨分散機(jī),使物料得到充分的分散。
高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是*重要的。醫(yī)藥二氧化鈦研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度極高,無(wú)需其他輔助分散設(shè)備。 設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē)
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器研磨分散機(jī) 流量* 輸出 線速度 功率 入口/出口連接 類(lèi)型 l/h rpm m/s kW CMD 2000/4 300 9,000 23 2.2 DN25/DN15 CMD 2000/5 1000 6,000 23 7.5 DN40/DN32 CMD 2000/10 200 4,200 23 22 DN80/DN65 CMD 2000/20 5000 2,850 23 37 DN80/DN65 CMD 2000/30 8000 1,420 23 55 DN150/DN125 CMD2000/50 15000 1,100 23 110 DN200/DN150 *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn)。
5 本系列機(jī)型具有短程送料能力,無(wú)自吸功能,須選用高位進(jìn)料;物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進(jìn)料和輸送時(shí),須選用壓力或輸送泵進(jìn)料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機(jī)型相匹配。
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