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    膨脹石墨剝離設備,石墨烯剝離設備,膨脹石墨如何制備石墨烯

    產品型號: CMSD2000
    品  牌: IKN
    • ≧0 臺
      ¥168000.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細信息
    膨脹石墨剝離設備,石墨烯剝離設備,膨脹石墨如何制備石墨烯 ,膨脹石墨液相剝離設備,石墨烯溶液是是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及剝離的效果。

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    通常直接把石墨或膨脹石墨EG)一般通過快速升溫至1000以上把表面含氧基團除去來獲取加在某種有機溶劑或水中, 借助超聲波、加熱或氣流的作用制備一定濃度的單層或多層石墨烯溶液。

      *、改進生產工藝制備優(yōu)質可膨脹石墨。制備膨脹石墨可采用化學方法和電化學方法;瘜W方法是將天然鱗片石墨用硫酸、硝酸以及適量的添加劑浸泡處理,經水洗、烘干后在800℃一1000℃高溫下膨脹,可獲得松裝密度為0 . 004 g/mL0.015 g/mL的膨脹石墨。50目粗的鱗片石墨先用硫酸、硝酸(硫酸:硝酸=2:1)酸化,并分步適量加入高錳酸鉀和三氯化鐵作浸泡處理,再加硫酸、硝酸(硫酸:硝酸=12:1)

    lOh,經水洗、烘干,在900℃溫度下膨脹,可獲得膨脹倍數近1000倍的膨脹石墨。

        電化學方法是將鱗片石墨原料放入按一定比例配置好的電解液中進行陽極氧化處理。經水洗、烘干后高溫膨脹獲得膨脹石墨。
     

      石墨烯分散需要解決六大基本問題

    Ø  石墨烯分散的挑戰(zhàn)性首先源于對石墨烯深度分散的必然要求,將石墨烯分散到單片或初級粒子狀態(tài);

    Ø  源于石墨烯對通過化學改性實現(xiàn)分散這一手段的低容忍性甚至抵觸性;化學改性,勢必干擾或一定程度上破壞π-π的完整性,從而降低或失去本征態(tài)石墨烯的優(yōu)異性能;

    Ø  源于石墨烯本身既不親水又不親油的結構特征;一般的分散劑分子又較難與石墨烯形成較強的物理吸附作用,所以使用表面活性分散石墨烯的物理手段也將受限;

    Ø  源于石墨烯的π-π結構和強的范德華力,使石墨烯極易團聚,而且團聚體難以再分開;

    Ø  還源于石墨烯極高的長徑比和比表面積;

    Ø  石墨烯的分散還面臨著實際生產操作性方面的難題。例如,4%濃度的水型石墨烯漿料已是膏態(tài),不具有流動性,這為生產過程中物料傳輸、分散和化學反應造成了困難。

     


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    是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。

    *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     

    研磨分散機應用領域:

    化學工業(yè):油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑,纖維素,石墨烯,碳納米管,富勒烯,電池漿,壓裂液料,纖維,芳綸,氯綸,晴綸等。         

     食品工業(yè):蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品,麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬,食用菌絲,蛋白粉 ,豆粕酶解等
    日用化工:牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜CC霜,粉底 等。
    醫(yī)藥工業(yè):各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮,口服混懸液,注射混懸液 ,膠囊,微球 動物組織破壁鹽酸頭孢噻呋,硫酸頭孢喹肟 等。
    建筑工業(yè):各種涂料。包括內外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
    新能源材料:石墨烯、 碳納米管 、碳纖維、 鋰電池漿料、電池隔膜 潤滑油等等

     

     

    設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
    電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
    電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
    電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
    研磨分散機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
    研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
    研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
    進出口聯(lián)結形式:法蘭、螺口、夾箍
    研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器

    研磨分散機

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMSD 2000/4

    300

    14,000

    41

    4

    DN25/DN15

    CMSD 2000/5

    1000

    10,500

    41

    11

    DN40/DN32

    CMSD 2000/10

    4000

    7,200

    41

    22

    DN80/DN65

    CMSD 2000/20

    10000

    4,900

    41

    45

    DN80/DN65

    CMSD 2000/30

    20000

    2,850

    41

    90

    DN150/DN125

    CMSD2000/50

    60000

    1,100

    41

    160

    DN200/DN150

    *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到*大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產品的要求。
    3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數,以便選型和定制。


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