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    鈦白粉的分散及鈦白粉高速研磨分散機(jī)

    產(chǎn)品型號(hào): CMSD2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺(tái)
      ¥198567.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細(xì)信息
    鈦白粉的分散及鈦白粉高速研磨分散機(jī),鈦白粉高速分散機(jī),鈦白粉砂磨機(jī)由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
    鈦白粉是目前工業(yè)領(lǐng)域中*好的白色顏料,被廣泛應(yīng)用于料、塑料、橡膠、紙張、陶瓷、化妝品與紡織工業(yè)。其中金紅石型鈦白較銳鈦型鈦白具有更高的耐候性,但金紅石型鈦白表面仍然存在光活性缺陷,為了提高鈦白的成品質(zhì)量,必須進(jìn)行表面包膜處理,包膜前要求TiO2顆粒具有良好的分散性,所以必須進(jìn)行打漿分散,提高其分散性。打漿分散工序作為表面處理的前序工作,它的地位是至關(guān)重要的,如何使打漿料漿具備更好的分散性和穩(wěn)定性對獲得符合要求的TiO2顆粒分散性具有重要意義。

    ,在后處理生產(chǎn)工藝中,分散粗顆粒和包膜采用的都是濕法處理過程,在此過程中,鈦白粉在介質(zhì)中的分散很重要,分散不良會(huì)使細(xì)微顆粒凝聚成粗顆粒,并會(huì)造成包膜時(shí)顆粒表面涂膜不均,甚至有些顆粒涂膜不到,達(dá)不到包膜作用。打漿分散的主要目的就是為后續(xù)工作提供充分分散的二氧化鈦穩(wěn)定分散體。

     

    機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯斔托缘囊蠓矫妫貏e要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     

    研磨分散機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域:

    化學(xué)工業(yè):油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑,纖維素,石墨烯,碳納米管,富勒烯,電池漿,壓裂液料,纖維,芳綸,氯綸,晴綸等。         

     食品工業(yè):蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品,麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬,食用菌絲,蛋白粉 ,豆粕酶解等
    日用化工:牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級(jí)化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜CC霜,粉底 等。
    醫(yī)藥工業(yè):各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮,口服混懸液,注射混懸液 ,膠囊,微球 動(dòng)物組織破壁鹽酸頭孢噻呋,硫酸頭孢喹肟 等。
    建筑工業(yè):各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
    新能源材料:石墨烯、 碳納米管 、碳纖維、 鋰電池漿料、電池隔膜 潤滑油等等

     

     

    設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無菌級(jí)
    電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
    電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
    電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
    研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
    研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
    研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
    進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
    研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

    研磨分散機(jī)

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMSD 2000/4

    300

    14,000

    41

    4

    DN25/DN15

    CMSD 2000/5

    1000

    10,500

    41

    11

    DN40/DN32

    CMSD 2000/10

    4000

    7,200

    41

    22

    DN80/DN65

    CMSD 2000/20

    10000

    4,900

    41

    45

    DN80/DN65

    CMSD 2000/30

    20000

    2,850

    41

    90

    DN150/DN125

    CMSD2000/50

    60000

    1,100

    41

    160

    DN200/DN150

    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產(chǎn)品的要求。
    漿液濃度:常用的固液比為TiO2:H:0=1:4—1:6。漿液濃度過濃會(huì)使分散效果下降,濃度過稀會(huì)使生產(chǎn)效率降低。在生產(chǎn)中TiO 的濃度一般保持在600 g/l~800g/l,過稀在生產(chǎn)中無任何經(jīng)濟(jì)效益,過濃則漿液在攪拌過程中,TiO 粒子容易絮凝,影響分散效果,且在后序工作中由于砂磨不易進(jìn)行,會(huì)造成水、電等必要的經(jīng)濟(jì)浪費(fèi)。
    3.?dāng)嚢鑿?qiáng)度:打漿分散時(shí)要有良好的攪拌幫助分散,據(jù)研究,攪拌的線速度在186m/min的情況下*好。線速度過快,被分散的TiO:離子因碰撞過于劇烈而重新絮凝,線速度過慢則漿液中絮凝的粒子不能擺脫粒子問的范德華力,不能在漿液中得到良好分散。

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