石墨烯粉體及導電漿料工藝流程 ，石墨原料  ，預分散  ，高能解離  ，制漿  石墨烯復合材料  ，石墨烯漿料。干燥  等工藝

采用高能解離方法和納米分散工藝對高品質石墨類原料片進行剝離  破碎   懸浮   分散   穩(wěn)定處理，形成穩(wěn)定的石墨烯導電漿料 。對高分散的石墨烯漿料進行特殊的干燥，形成石墨烯粉體。

將石墨烯粉體和其它復合材料處理，得到石墨烯復合材料   
 

如   (1)得到的混合液中緩慢加入活化劑亞硝酸鈉，亞硝酸鈉的加入量為步 f 長石墨蠕蟲質量的部倍，并同時以4〇〇r/min速度快速攪拌，活化劑亞硝酸納與插 層劑氣磺fe發(fā)生反應，產(chǎn)生氣流，使膨脹石墨蠕蟲的片層發(fā)生剝離；
應完畢后，

翻的溶液中加入蒸饋水(其中，蒸饋水和步驟⑴ 巧膨脹石堅蠕蟲$質量比為綠。，將產(chǎn)物進行過濾，用蒸饋水洗漆并干燥，得到發(fā)生較大 ^度膨脹的石墨則驅體粉體(該石墨前驅體粉體為片層發(fā)生膨脹分離的膨脹石墨蠕蟲）；

將步驟(3)得到的石墨前驅體粉體分散在分散介質XX中，加入少量分散劑 中，所述天然鱗片石墨的質量比，獲得石墨 篩分散液。

繼續(xù)對石墨烯分散液進行干燥得到石墨烯粉體。

石墨烯粉體及導電漿料工藝流程 ，石墨原料  ，預分散  ，高能解離  ，制漿  石墨烯復合材料  ，石墨烯漿料

 

研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。 

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

研磨分散機應用領域： 化學工業(yè)：油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑,纖維素，石墨烯，碳納米管，富勒烯，電池漿,壓裂液料,纖維,芳綸,氯綸,晴綸等。           食品工業(yè)：蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品，麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬，食用菌絲，蛋白粉 ，豆粕酶解等 日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜CC霜，粉底 等。 醫(yī)藥工業(yè)：各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮，口服混懸液，注射混懸液 ，膠囊，微球 動物組織破壁鹽酸頭孢噻呋，硫酸頭孢喹肟 等。 建筑工業(yè)：各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 新能源材料：石墨烯、 碳納米管 、碳纖維、 鋰電池漿料、電池隔膜 潤滑油等等

設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMSD 2000/4	300	14,000	41	4	DN25/DN15
CMSD 2000/5	1000	10,500	41	11	DN40/DN32
CMSD 2000/10	4000	7,200	41	22	DN80/DN65
CMSD 2000/20	10000	4,900	41	45	DN80/DN65
CMSD 2000/30	20000	2,850	41	90	DN150/DN125
CMSD2000/50	60000	1,100	41	160	DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節(jié)到*大允許量的10%。

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