新型催化劑漿料高速粉碎破碎打漿膠體磨，新型催化劑漿料高速粉碎膠體磨 ，催化劑高速膠體磨，催化劑漿料高速粉碎  膠體磨   

保護(hù)環(huán)境和地球上有限的資源，好的辦法是不產(chǎn)生污染物，為此，從產(chǎn)生這些污染物的化學(xué)反應(yīng)的本身去尋找解決環(huán)境污染的辦法。治理“三廢”的環(huán)境保護(hù)方法實(shí)際上有兩大類：一類是對排放污染源的處理，也就是傳統(tǒng)意義上的“末端治理”法，即將排放污染源中的毒物降解成的或毒性小的物質(zhì)，使其符合環(huán)境法法規(guī)的要求再行排放。另一類是對產(chǎn)生污染源的整個(gè)工藝過程進(jìn)行，這就是現(xiàn)在提倡的綠色化工的內(nèi)涵，即盡量不使用有毒、有害的原料和溶劑，從而實(shí)現(xiàn)毒物和廢棄物的零排放，并使生成的產(chǎn)物可以重復(fù)利用。然而，無論環(huán)境污染的“末端治理”法，還是綠色化工的實(shí)施，都離不開催化劑。

近一二十年來，光催化、電催化、聲催化、生物催化等一系列新穎的催化技術(shù)和新材料相繼問世，多種催化方式的組合應(yīng)用技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生，有些組合催化系統(tǒng)已經(jīng)在實(shí)際中發(fā)揮著的作用

如

來的浸漬漿液中含有金屬氧化物、脫鹽水和膠液，在進(jìn)入下一段工序之前，需使浸漬漿液中的金屬氧化物和膠液形成的混合物顆粒粒徑達(dá)到要求，分布均勻，而上工序攪拌時(shí)會(huì)產(chǎn)生結(jié)塊現(xiàn)象，膠體磨的主要目的是將浸漬漿液中混合物結(jié)塊經(jīng)過研磨，使得浸漬漿液中比較大的顆粒被研磨打碎成顆粒分布均勻的小顆粒，然后通過后續(xù)噴霧干燥工段，以得到粒度大小合格、分布均勻的產(chǎn)品。膠體磨的安裝位置在浸漬漿液儲(chǔ)槽入口的管線上。

膠體磨連續(xù)操作。

可以采用類似山東金能白炭黑的工藝要求 說明一下

2、基礎(chǔ)條件

2.1介質(zhì)名稱：浸漬漿液

2.2介質(zhì)溫度：40℃

2.3介質(zhì)壓力：常壓

2.4介質(zhì)黏度：1000mPa.s

2.5處理量：3000kg/h

2.6 出料粒度：<3µm

好要了解固含量   ,如果太大,可能型號要變大,另外強(qiáng)調(diào)的研磨出料粒度：<3µm,可能是國內(nèi)的許多廠家達(dá)不到的要求

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根據(jù)一些行業(yè)的te殊要求, IKN 在CM2000系列膠體磨的基礎(chǔ)上又開發(fā)了一款CMS2000X速膠體磨，轉(zhuǎn)子的線速度可以da到40M/S。研磨分散效果更好，研磨粒徑分布更小。

       chaoX速膠體磨的細(xì)化作用一般來說要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī)，但它對物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。 

       CMS2000的線速度很高，剪切間隙fei常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     三級錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款X速膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度da到3bei以上,X大的轉(zhuǎn)速可以da到14000RPM。所以可以da到更好的分散濕磨效果。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。2 處理量取決于物料的粘度，稠度和#終產(chǎn)品的要求。3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，bi須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。

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