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依肯IKN復方甘油凝膠注射液研磨均質機18018542795
詳細信息| 詢價留言CMSD2000復方甘油注射液研磨均質機,注射液研磨均質機,甘油均質乳化機,凝膠溶酶體系均質膠體磨,無菌級均質機在藥品生產中具有重要的意義。例如,將中藥材粉碎至適宜粒度,有利于藥材中的有效成分的浸出或溶出。又如,制備散劑、顆粒劑、丸劑、片劑等所需的固體原料藥均應粉碎至細粉,以利于制備成型。再如,將固體藥物粉碎成較小粒徑的顆粒,可增大藥物的比表面積,促進藥物的溶解與吸收,從而提高生物利用度。
影響研磨粉碎結果的因素有以下幾點:
1 磨頭的剪切速率 (越大,效果越好)
2 磨頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
3 物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
4 循環(huán)次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v速率 (m/s) g定-轉子 間距(m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM /60
設備的選型要點:
1、明確使用設備所需達到的效果和目的
2、詳細了解并掌握研究物料的性質(包括物理、化學性質)
3、根據物料對設備的攪拌機進行選型
4、再次確定設備的操作參數及結構設計
5、綜合考慮設備的成本
研磨均質機采購須知:
超高速研磨均質機的細化作用一般來說要強于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。 濕磨機濕磨是干磨的一種安全而高效的替代方案,基于轉子-定子原理。
研磨均質機是由膠體磨,均質機組合而成的高科技產品。
**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
CMSD2000復方甘油注射液研磨均質機,注射液研磨均質機,甘油均質乳化機,凝膠溶酶體系均質膠體磨,無菌級均質機
研磨均質機
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
CMSD 2000/4
300
14,000
41
4
DN25/DN15
CMSD 2000/5
1000
10,500
41
11
DN40/DN32
CMSD 2000/10
4000
7,200
41
22
DN80/DN65
CMSD 2000/20
10000
4,900
41
45
DN80/DN65
CMSD 2000/30
20000
2,850
41
90
DN150/DN125
CMSD2000/50
60000
1,100
41
160
DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到**允許量的10%。
1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產品的要求。
3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數,以便選型和定制。
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