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    依肯IKN氮化硼乙醇共混法超細研磨分散機設(shè)備CMSD2000

    產(chǎn)品型號: CMSD2000
    品  牌: 依肯IKN
    • ≧1 臺
      ¥118900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-21
    詳細信息

    氮化硼乙醇共混法超細研磨分散機設(shè)備,氮化硼超細研磨分散設(shè)備,氮化硼粉末濕法高剪切粉碎,德國進口研磨粉碎設(shè)備,高轉(zhuǎn)速研磨分散機,改進型膠體磨

     

     

     

    氮化硼由于其特性與石墨相似而質(zhì)地潔白,俗稱白石墨,有六方與立方兩種晶型, 但通常呈六方結(jié)構(gòu)。在高溫與超高壓的特殊條件下,可將六方結(jié)構(gòu)晶型轉(zhuǎn)化為立方晶型。 氮化硼由于機械強度高,在高溫下無負載軟化現(xiàn)象,可作機械加工車削。氮化硼使用范圍廣 泛,其粉末可作優(yōu)良的潤滑劑與脫模劑,合成工程陶瓷材料后可用作熔煉蒸發(fā)金屬的坩堝、 舟皿、液態(tài)金屬輸送管、戰(zhàn)斗機、火箭起飛噴口,大功率器件底座,半導(dǎo)體元件摻雜源,以及 各種高溫、高壓或高頻的絕緣散熱部件。而立方氮化硼則為近似于金剛石的超硬材料。

     

     

    上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

     

    CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

     

    CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

     

     

    從設(shè)備角度來分析,影響分散效果因素有以下幾點:

    1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

    2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

    3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

    4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

    5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

     

    線速度的計算:

    剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

    剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
                   g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

    由上可知,剪切速率取決于以下因素:

    轉(zhuǎn)子的線速率

    在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
    IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

    速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

     所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,研磨分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

     

     

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