半導(dǎo)體性單壁碳納米管溶液研磨用高速大小型分散機(jī)作為一維納米材料，重量輕，結(jié)構(gòu)連接完美，具有許多異常的力學(xué)、電學(xué)和化學(xué)性能。近些年隨著碳納米管及納米材料研究的深入其廣闊的應(yīng)用前景也不斷地展現(xiàn)出來。

　　半導(dǎo)體性單壁碳納米管溶液性質(zhì)

　　直徑:1.2nm-1.7nm

　　長度:300nm-5μm

　　金屬雜質(zhì):

　　無定型碳:1-5%

　　半導(dǎo)體性單壁碳納米管溶液應(yīng)用

　　復(fù)合材料，電子器件，熒光標(biāo)記

　　半導(dǎo)體性單壁碳納米管溶液研磨分散機(jī)，碳納米管研磨分散設(shè)備，管線式研磨分散機(jī)，高速研磨分散機(jī)

　　半導(dǎo)體性單壁碳納米管溶液制備難點

　　目前制備碳納米管的方法很多,然而這些方法所制得的產(chǎn)物中除碳納米管外常常還含有無定形碳、碳納米粒子及催化劑顆粒等雜質(zhì),這些雜質(zhì)的存在直接影響到碳納米管的性能測試及其應(yīng)用研究,因此碳納米管的純化研究十分必要與重要。而不同制備方法所得碳納米管的性質(zhì)以及所引入的雜質(zhì)都不相同,這就增加了碳納米管純化研究的難度。上海依肯公司結(jié)合該領(lǐng)域研究前沿對碳納米管的制備方法做了深入研究，根據(jù)以往實驗經(jīng)驗推薦使用IKN碳納米管溶液研磨分散機(jī)。

　　半導(dǎo)體性單壁碳納米管溶液研磨分散機(jī)設(shè)備介紹:

　　IKN研磨分散機(jī)在碳納米管導(dǎo)分散中有著突出的優(yōu)勢，IKN研磨分散機(jī)是將研磨機(jī)和分散機(jī)合二為一的設(shè)備，先研磨后分散，可以將碳納米管充分、均勻的分散到溶劑或樹脂當(dāng)中，避免團(tuán)聚，分散更均勻、穩(wěn)定。

　　半導(dǎo)體性單壁碳納米管溶液研磨分散機(jī)是膠體磨（研磨機(jī)）和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

　　第yi級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

　　第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

　　研磨分散設(shè)備在設(shè)計上的突出特點:

　　1、轉(zhuǎn)速14000rpm相較其它廠家2900轉(zhuǎn)左右高出約4-5倍:

　　2、磨頭結(jié)構(gòu)更精密并有獨特設(shè)計,使之研磨作用力更大，效果更好。

　　3、德國進(jìn)口雙端面機(jī)械密封擁有獨特結(jié)構(gòu)和特殊材質(zhì)保證高速運轉(zhuǎn)和長使用壽命。

　　4、CMD2000/4中試型研磨機(jī)與大型工業(yè)管線式量產(chǎn)機(jī)型配置基本相同。各種工作頭的種類及相應(yīng)線速度相同，中試過程中的工藝參數(shù)在工業(yè)化后之后不用重新調(diào)整，從而將機(jī)器型號升級到工業(yè)化的過程中的風(fēng)險降到*低。

　　研磨分散機(jī)設(shè)備的技術(shù)參數(shù):

　　型號 流量L/H 轉(zhuǎn)速rpm 線速度m/s 功率kw 入/出口連接DN

　　CMD2000/4 300 9000 23 2.2 DN25/DN15

　　CMD2000/5 1000 6000 23 7.5 DN40/DN32

　　CMD2000/10 2000 4200 23 22 DN80/DN65

　　CMD2000/20 5000 2850 23 37 DN80/DN65

　　CMD2000/30 8000 1420 23 55 DN150/DN125

　　CMD2000/50 15000 1100 23 110 DN200/DN150

　　流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。

　　1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。 

　　2.處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產(chǎn)品的要求。

　　3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。

　　4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實物為準(zhǔn).