分散光催化劑納米研磨機分解技術(shù)是通過將納米級二氧化鈦材料與超大比表面積及輕質(zhì)的炭基材，經(jīng)特殊工藝燒結(jié)制備而成，并完成了該材料的量產(chǎn)化，從而徹底解決了傳統(tǒng)催化技術(shù)效率低下的問題。

納米光催化劑是污染物的克星，其作用機理簡單來說（如下圖所示）就是：納米光催化劑在特定波長的光的照射下受激生成"電子一空穴"對（一種高能粒子），這種"電子一空穴"對和周圍的水、氧氣發(fā)生作用后，就具有了極強的氧化－還原能力，能將空氣中甲醛、苯等污染物直接分解成無害無味的物質(zhì)，以及破壞細菌的細胞壁，殺滅細菌并分解其絲網(wǎng)菌體，從而達到了消除空氣污染的目的。　具體來說在光照下，如果光子的能量大于半導體禁帶寬度，其價帶上的電子（e-）就會被激發(fā)到導帶上，同時在價帶上產(chǎn)生空穴（h+）。光生空穴有很強的氧化能力，光生電子具有很強的還原能力，它們可以遷移到半導體表面的不同位置，與表面吸附的污染物發(fā)生氧化還原反應。

IKN高速分散機采用變頻調(diào)速，各種規(guī)格、運轉(zhuǎn)穩(wěn)定有力，適合各種粘度；液壓、機械兩種升降形式，升降旋轉(zhuǎn)自如，適應各種位置；普通及防爆配置，安全可靠，操作維護簡單；生產(chǎn)連續(xù)性強，對物料可進行快速分散和溶解，分散效果好，生產(chǎn)效率高，運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，安裝簡便。針對不同物料的粘度及處理量有不同的功率及型號。

IKN分散機采取直立式設(shè)計，由1-3個工作腔組成，在馬達的高速驅(qū)動下，物料在轉(zhuǎn)子定子之間狹窄間隙中高速運動，形成紊流，物料受到更強液力剪切、離心擠壓、高速切割、撞擊和研磨等綜合作用，從而達到分散、乳化、破碎的效果。被加工的物料本身和物理性質(zhì)和工作腔的數(shù)量以及控制物料在工作腔中停留的時間決定物料粒徑的分布范圍及均化、細化的效果和產(chǎn)量大小。

分散機的優(yōu)勢：

結(jié)合優(yōu)良的研磨效果的高吞吐量

定制不同的乳化刀頭，實現(xiàn)多種分散乳化剪切速率

為減少顆粒大小的控制，可無限調(diào)整定子/轉(zhuǎn)子之間的間隙設(shè)置

適合于粘度高達50,000 mPas的各種粘度范圍的物料

能在高達16 bar的壓力下操作

容易擴大規(guī)模生產(chǎn)，從實驗室機器開發(fā)到工業(yè)生產(chǎn)機器

所有接觸液體的部件為316L或316Ti不銹鋼

具有耐磨材料的高性能機械密封密封

高質(zhì)量的表面處理，便于清洗

可根據(jù)要求提供其他材料和表面處理

機器可自動排水， 具有CIP和SIP功能

噪音低

根據(jù)符合EHEDG（歐洲衛(wèi)生工程設(shè)計集團）準則制造

符合3A衛(wèi)生和認證

根據(jù)需要提供制藥

根據(jù)提供的ATEX 95指導方針執(zhí)行防爆

從設(shè)備角度來分析，影響分散效果因素有以下幾點：

1.分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.分散頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

分散是至少兩種不相容液體構(gòu)成熱力學不穩(wěn)定體系，一種液體以球形單位分散在另一種液體中，所以分散越穩(wěn)定分散效果越好。