納米高剪切膠體磨在制藥領域中的應用適用于中試生產(chǎn)，無jun，無殘留，內(nèi)置高速刮邊攪拌機，可采用間歇式/連續(xù)式生產(chǎn)方式，生產(chǎn)過程中溫度可控，設備效率快，效果好，靈活性高，可根據(jù)需求改裝成膠體磨、乳化機、分散機、混合機等

德國IKN公司為制藥企業(yè)量身定做生產(chǎn)的CMSD2000能夠很好的滿足疫苗生產(chǎn)中對于粒徑范圍的要求，采用直立式設計，無衛(wèi)生死角，便于清潔消毒，符合CIP及SIP等GMP管理標準，同時，IKN提供的模塊式設計能很好的實現(xiàn)不同制藥工藝的要求。 

膠體磨是一種由不銹鋼、半不銹鋼膠體磨組成，膠體磨的基本原理是流體或半流體物料通過高速相對連動的定齒與動齒之間，使物料受到強大的剪切力，磨擦力及高頻振動等作用，有效地被粉碎、乳化、均質(zhì)、混合，從而獲得滿意的經(jīng)細加工的產(chǎn)品。

普通立式膠體磨zui高轉(zhuǎn)速2930轉(zhuǎn)，粉碎研磨效果較差，適用于制備要求不高，附加值不高，量大的產(chǎn)品，而進口膠體磨轉(zhuǎn)速9000轉(zhuǎn)以上適用于中端產(chǎn)品，附加值相對較高，量大的產(chǎn)品，目前上海依肯膠體磨，設備轉(zhuǎn)速達14000轉(zhuǎn)，zui高可達21000轉(zhuǎn)，廣泛活躍在鎬端產(chǎn)品市場，其中制藥、新材料研發(fā)等應用較多。

納米高剪切膠體磨在制藥領域中的應用是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMSD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。