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德國IKN高固含量氫氧化鎂阻燃劑打漿膠體磨機CMSD2000
詳細信息| 詢價留言型號:CMSD2000 品牌:德國IKN 工作方式:高速膠體磨 適用物料:流體漿料 應用領域:化工新能源 加工批量:100 驅(qū)動功率:4 kw 研磨籃容量:1 介質(zhì)尺寸:12 行程:1 外形尺寸:1 m 重量:45 kg 驅(qū)動方式:電動 作用對象:鋸刀 重量:45 kg 高固含量氫氧化鎂阻燃劑打漿膠體磨機是一種新型填充型阻燃劑,通過受熱分解時釋放出結(jié)合水,吸收大量的潛熱,來降低它所填充的合成材料在火焰中的表面溫度,具有抑制聚合物分解和對所產(chǎn)生的可燃氣體進行冷卻的作用。
分解生成的氧化鎂又是良好的耐火材料,也能幫助提高合成材料的抗火性能,同時它放出的水蒸氣也可作為一種抑煙劑。氫氧化鎂是公認的橡塑行業(yè)中具有阻燃、抑煙、填充三重功能的優(yōu)秀阻燃劑。廣泛應用于橡膠、化工、建材、塑料及電子、不飽和聚酯和油漆、涂料等高分子材料中。特別是對礦用導風筒涂覆布、PVC整芯運輸帶、阻燃鋁塑板、阻燃篷布、PVC電線電纜料、礦用電纜護套、電纜附件的阻燃、消煙抗靜電,可代替氫氧化鋁,具有優(yōu)良的阻燃效果。氫氧化鎂與同類無機阻燃劑相比,具有更好的抑煙效果。氫氧化鎂在生產(chǎn)、使用和廢棄過程中均無有害物質(zhì)排放,而且還能中和燃燒過程中產(chǎn)生的酸性與腐蝕性氣體。
現(xiàn)有制備氫氧化鎂阻燃劑的方法很多,主要有物理法和化學法兩種方式,物理法是通過對天然礦物水鎂石進行物理深加工制得的,化學法主要是利用化學合成法,即通過利用含有氯化鎂的鹵水、鹵礦等原料與堿類在水介質(zhì)中的反應,化學法大都生產(chǎn)工藝過程復雜,原材料不易獲得,易污染環(huán)境,從工業(yè)應用成本的角度考慮是不可接受的。水鎂石原礦本身會含有一些脈石礦物雜質(zhì),物理法通常是直接將水鎂石經(jīng)過粉碎機粉碎后得到氫氧化鎂阻燃劑,這樣產(chǎn)品里面就包含了一些雜質(zhì);若是低品位的水鎂石,其中含的雜質(zhì)會更多;氫氧化鎂阻燃劑的純度不純的話,會影響到自身的阻燃性能,因此,需要對其進行除雜提純。
上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤?筛鶕(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前普通設備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。
從設備角度來分析,影響分散效果因素有以下幾點:
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)
線速度的計算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,研磨分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
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