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    德國IKN納米氮化鎵復(fù)合涂覆材料高速大小型研磨分散機(jī)CMSD2000

    產(chǎn)品型號(hào): CMSD2000
    品  牌: 德國IKN
    • ≧1 臺(tái)
      ¥118900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-12-16
    詳細(xì)信息
     品牌:德國IKN  類型:剪切分散機(jī)  物料類型:固-液  
     適用物料:化學(xué)品  應(yīng)用領(lǐng)域:化工  型號(hào):CMSD2000  
     速度類別:五級(jí)變速  調(diào)速范圍:0-15000 r/min 分散輪直徑:55 mm 
     升降行程:100 mm 電機(jī)功率:4 Kw 變速方式:變頻變速  
     罐容量:7 L 外形尺寸:1-1-1 mm 整機(jī)重量:45 kg 
    納米氮化鎵復(fù)合涂覆材料高速大小型研磨分散機(jī)是一種無機(jī)物,化學(xué)式GaN,是氮和鎵的化合物,是一種直接能隙(direct bandgap)的半導(dǎo)體,自1990年起常用在發(fā)光二極管中。此化合物結(jié)構(gòu)類似纖鋅礦,硬度很高。氮化鎵的能隙很寬,為3.4電子伏特,可以用在高功率、高速的光電元件中,例如氮化鎵可以用在紫光的激光二極管,可以在不使用非線性半導(dǎo)體泵浦固體激光器的條件下,產(chǎn)生紫光(405nm)激光。

    氮化鎵復(fù)合涂覆材料前景對(duì)于GaN材料,長(zhǎng)期以來由于襯底單晶沒有解決,異質(zhì)外延缺陷密度相當(dāng)高,但是器件水平已可實(shí)用化。1994年日亞化學(xué)所制成1200mcd的 LED,1995年又制成Zcd藍(lán)光(450nmLED),綠光12cd(520nmLED);日本1998年制定一個(gè)采用寬禁帶氮化物材料開發(fā)LED的 7年規(guī)劃,其目標(biāo)是到2005年研制密封在熒光管內(nèi)、并能發(fā)出白色光的高能量紫外光LED,這種白色LED的功耗僅為白熾燈的1/8,是熒光燈的1/2, 其壽命是傳統(tǒng)熒光燈的50倍~100倍。這證明GaN材料的研制工作已取相當(dāng)成功,并進(jìn)入了實(shí)用化階段。InGaN系合金的生成,InGaN/AlGaN 雙質(zhì)結(jié)LED,InGaN單量子阱LED,InGaN多量子阱LED等相繼開發(fā)成功。InGaNSQWLED6cd高亮度純綠茶色、2cd高亮度藍(lán)色 LED已制作出來,今后,與AlGaP、AlGaAs系紅色LED組合形成亮亮度全色顯示就可實(shí)現(xiàn)。這樣三原色混成的白色光光源也打開新的應(yīng)用領(lǐng)域,以高可靠、長(zhǎng)壽命LED為特征的時(shí)代就會(huì)到來。日光燈和電燈泡都將會(huì)被LED所替代。LED將成為主導(dǎo)產(chǎn)品,GaN晶體管也將隨材料生長(zhǎng)和器件工藝的發(fā)展而迅猛發(fā)展,成為新一代高溫度頻大功率器件。
     

    研磨分散機(jī)工作原理:研磨分散機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的gao旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被you xiao地乳化、分散和粉碎,da物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

     

    研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。 第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    er級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,te要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征dou改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出#終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     

    研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

    研磨分散機(jī)

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMSD 2000/4

    300

    14,000

    41

    4

    DN25/DN15

    CMSD 2000/5

    1000

    10,500

    41

    11

    DN40/DN32

    CMSD 2000/10

    4000

    7,200

    41

    30

    DN80/DN65

    CMSD 2000/20

    10000

    4,900

    41

    45

    DN80/DN65

    CMSD 2000/30

    20000

    2,850

    41

    90

    DN150/DN125

    CMSD2000/50

    60000

    1,100

    41

    160

    DN200/DN150

    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到#大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和#終產(chǎn)品的要求。
    3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,bi須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
    4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數(shù)yi提供的實(shí)物為準(zhǔn)。
    5 本系列機(jī)型具有短程送料能力,無自吸功能,須選用高位進(jìn)料;物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進(jìn)料和輸送時(shí),須選用壓力或輸送泵進(jìn)料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機(jī)型相匹配。

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