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    德國IKN高性能鈉離子電池負極材料漿料大小型研磨分散機制備方法CMSD2000

    產(chǎn)品型號: CMSD2000
    品  牌: 德國IKN
    • ≧1 臺
      ¥118900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-12-16
    詳細信息
     品牌:德國IKN  類型:剪切分散機  物料類型:固-液  
     適用物料:化學(xué)品  應(yīng)用領(lǐng)域:化工  型號:CMSD2000  
     速度類別:五級變速  調(diào)速范圍:0-14400 r/min 分散輪直徑:115 mm 
     升降行程:100 mm 電機功率:30 Kw 變速方式:變頻變速  
     罐容量:100 L 外形尺寸:1-1-1 mm 整機重量:450 kg 

    高性能鈉離子電池負極材料漿料大小型研磨分散機制備方法,碳基材料由于資源豐富、價格低廉同時又環(huán)境友好被視為*具發(fā)展?jié)摿Φ拟c離子電池負極材料,硬碳、炭黑、碳纖維、石墨烯等相繼見諸報端。

    不幸的是,大多數(shù)碳材料在不同程度上存在首次庫倫效率低和循環(huán)性能差的問題,而雜環(huán)原子(例如B,N,S,P)的摻雜可改善上述問題,因為它能提高導(dǎo)電性,同時又能引入結(jié)合鈉離子的活性位點,氮摻雜的碳基材料被廣泛研究并在作為鈉電負極時展現(xiàn)出重大進步。

     


    研磨分散機工作原理:研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的gao旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被you xiao地乳化、分散和粉碎,da物料超細粉碎及乳化的效果。

    與氮相比,硫擁有更大的原子尺寸和更小的電負性,摻雜時更有利于增大層間距、引入活性位點、增強碳基材料的電學(xué)性能。從雙元素摻雜的協(xié)同效應(yīng)的角度來看,N/S共摻雜是實現(xiàn)高導(dǎo)電性和擴大層間距的有效方式。

    但是,通常用含硫的前驅(qū)體作為硫源,僅能通過擴大層間距來提高鈉的嵌入,不能提供額外的的法拉第反應(yīng)來進一步提高儲鈉容量。

    圖1硫摻雜的示意圖
     

    研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 

    第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    er級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,te要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征dou改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出#終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。


    為解決此類問題,南開大學(xué)周震教授團隊采用了一種完全不同的方式進行硫摻雜——在H2S氣氛下熱處理富氮碳納米片。

    該方式利用氣-固反應(yīng)直接將吡咯N取代為S,通過形成-C-S-C-鍵的形成來提高S的利用率(如圖1所示),增大層間距的同時(圖2)提供更多的活性位點來滿足高度可逆的儲鈉反應(yīng),因此該氮硫共摻雜的多孔碳納米片(S-N/C)用作鈉電負極時展現(xiàn)出高容量和優(yōu)異的倍率性能。

    圖2氮硫摻雜對碳材料層間距的影響
     

    設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無jun級
    電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
    電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
    電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
    研磨分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
    研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
    研磨分散機表面處理:拋光、耐mo處理
    進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
    研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

    研磨分散機

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMSD 2000/4

    300

    14,000

    41

    4

    DN25/DN15

    CMSD 2000/5

    1000

    10,500

    41

    11

    DN40/DN32

    CMSD 2000/10

    4000

    7,200

    41

    30

    DN80/DN65

    CMSD 2000/20

    10000

    4,900

    41

    45

    DN80/DN65

    CMSD 2000/30

    20000

    2,850

    41

    90

    DN150/DN125

    CMSD2000/50

    60000

    1,100

    41

    160

    DN200/DN150

    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到#大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和#終產(chǎn)品的要求。
    3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,bi須提供準確的參數(shù),以便選型和定制。
    4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,定制而不符,正確的參數(shù)yi提供的實物為準。
    5 本系列機型具有短程送料能力,無自吸功能,須選用高位進料;物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進料和輸送時,須選用壓力或輸送泵進料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。

    從S-N/C的CV中可以看出,與N/C相比,S-N/C在1.05V有一個還原峰,對應(yīng)Na+與連結(jié)在碳基底上的S之間的反應(yīng),在1.8V有一個氧化峰,表明S-N/C的部分容量是由Na+與S之間的法拉第反應(yīng)貢獻。在50mA/g的電流密度下,穩(wěn)定容量可保持在350mAh/g左右,即使電流密度提高到10A/g,容量仍可維持在110mAh/g左右,展現(xiàn)出優(yōu)異的倍率性能。

    圖3S-N/C電化學(xué)性能

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