依托紅霉素混懸液高剪切納米高速均質(zhì)機(jī)是為了實(shí)現(xiàn)互不相溶相的分散，強(qiáng)力粉碎并混合其粒子。粉碎意味著克服表面張力的阻力來形成新表面。分散過程傳遞所需的能量，并兩相均質(zhì)混合。分散的長(zhǎng)期穩(wěn)定性會(huì)受到確切粒度分布及乳化劑和穩(wěn)定劑使用的影響。 

分散性是指活性組分粒子懸浮于分散介質(zhì)中保持分散成微粒個(gè)體粒子的能力。分散性與懸浮性有密切關(guān)系。分散性好，一般懸浮性就好

影響分散性的主要因素是活性組分和分散劑的種類和用量

活性組分粒子有足夠的細(xì)度，活性組分粒子越大，越易加速沉降，破壞分散性

活性組分粒子越小，粒子表面的自由能就越大，越易受范德華引力的作用，相互吸引發(fā)生團(tuán)聚現(xiàn)象而加速沉降，因而也降低了懸浮性

要提高活性組分粒子在懸浮液中的分散性，除了要足夠的細(xì)度外，重要的是克服團(tuán)聚現(xiàn)象，主要辦法是加入分散劑。

混懸劑的質(zhì)量要求

有效含量（生產(chǎn)控制必測(cè)指標(biāo)）

細(xì)度（生產(chǎn)控制必測(cè)指標(biāo)）

懸浮性（生產(chǎn)控制必測(cè)指標(biāo)）

pH值（生產(chǎn)控制必測(cè)指標(biāo)）

分散性 

粘度 

流動(dòng)性 

發(fā)泡性 

貯存穩(wěn)定性

提供轉(zhuǎn)子-定子機(jī)械裝置來確保的分散效果、良好的清潔度和較長(zhǎng)運(yùn)行壽命。憑借這幾項(xiàng)特點(diǎn)和易維護(hù)設(shè)計(jì)，轉(zhuǎn)子-定子機(jī)械裝置實(shí)現(xiàn)滿意的成本/售價(jià)比。 轉(zhuǎn)子-定子系統(tǒng)進(jìn)行分散的過程中，粉碎有效能量經(jīng)特定轉(zhuǎn)動(dòng)件導(dǎo)入。IKN提供：

EDL單級(jí)分散

ER三級(jí)分散

CM膠體磨分散

CMSD膠體磨和分散合二為一

連續(xù)式固液混合機(jī)（PLC型）分散  CM-ER

固液混合機(jī)（PLD、EBI型）濃縮過程中分散

依托紅霉素混懸液高剪切納米高速均質(zhì)機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。 

第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第er級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，te別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征dou能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出#終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和#終產(chǎn)品的要求。

3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，bi須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。