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芳綸纖維高剪切研磨分散機
詳細信息| 詢價留言型號:CMD2000 品牌:依肯 工作方式:高速萬能研磨機 適用物料:化工 化妝品 食品 藥品 應用領域:化工 化妝品 食品 藥品 驅(qū)動功率:2.2-110 kw 重量:55 kg 驅(qū)動方式:電機 作用對象:銑刀
芳綸漿粕是對芳綸纖維進行表面原纖化處理之后便得到的,其獨特的表面結(jié)構(gòu)*地提高了混合物的抓附力,因此非常適合作為一種增強纖維應用于摩擦及密封產(chǎn)品中。
芳綸漿粕纖維因兼有優(yōu)異的濕加工性能和增強性能而被廣泛用于工業(yè)造紙。漿粕在水中很易分散抄紙,且漿粕原纖的高長徑比提供了芳綸漿粕強度,除了能夠改進彈性基體的抗拉強度、模量以及抗蠕變等性能外,由于其熱膨脹系數(shù)小、質(zhì)輕、電性能優(yōu)異而適合做高級絕緣用紙及需尺寸穩(wěn)定性極高的印刷集成電路板,芳綸漿粕的輕量化高密度元件,可用于衛(wèi)星通信線路、高速傳遞回路等電子產(chǎn)品。
芳綸漿粕研磨分散機是電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化均質(zhì)分散的效果。
納米材料極易產(chǎn)生自身的團聚,使得應有的性能難以充分發(fā)揮。此外,納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮,還取決于***大限度降低粉體與介質(zhì)間的表面張力。因此,納米氧化物粉體必須均勻分散,充分打開其團聚體,才能發(fā)揮其應有的奇異性能。
納米材料在涂料體系中的分散,一般是采用下述分散方法來達到分散效果。
研磨分散:利用三輥機或多輥機的輥與輥速度的不同,將研磨料投入加料輥(后輥)和中輥之間的加料溝,二輥以不同速度內(nèi)向旋轉(zhuǎn),部分研磨料進入加料縫并受到強大的剪切作用,通過加料縫,研磨料被分為兩部分,一部分附加在加料輥上回到加料溝,另一部分由中輥帶到中輥和前輥之間的刮漆縫,在此又一次受到更強大的剪切力作用。經(jīng)過刮漆縫,研磨料又分成兩部分,一部分由前輥帶到刮刀處,落入刮漆盤,另一部分再回到加料溝,如此經(jīng)幾次循環(huán),可達到分散的目的。但用三輥機或多輥機進行處理效率低,能耗高,滿足不了大生產(chǎn)的需求。
◆ 球磨分散: 通過球磨機中磨球之間及磨球與缸體間相互滾撞作用,使接觸鋼球的粉體粒子被撞碎或磨碎,同時使混合物在球的空隙內(nèi)受到高度湍動混合作用而被均勻地分散。
◆ 砂磨分散: 砂磨是球磨的外延。只不過研磨介質(zhì)是用微細的珠或砂。砂磨機可連續(xù)進料,納米粉體的預混合漿通過圓筒時,在筒中受到激烈攪拌的砂粒所給予的猛烈的撞擊和剪切作用,使得納米氧化物能很好地分散在涂料中,分散后的漿離開砂粒研磨區(qū)通過出口篩,溢流排出,出口篩可擋住砂粒,并使其回到筒中。通過球磨機和砂磨機分散能取得較好的分散效果及物料細度,但球磨機和砂磨機同樣無法避免處理效率低,能耗高的缺點。
◆ 研磨分散機: 高剪切分散機的核心部件是定子/轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu),轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應帶來強勁的動能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械剪切、液力剪切、離心擠壓、液層磨擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,使不相溶的固相、液相、氣相在相應成熟工藝的條件下,瞬間均勻精細地分散,經(jīng)過高頻的循環(huán)往復,***終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。與三輥機、球磨機、砂磨機相比,研磨分散機具有效率高、能耗低等顯著優(yōu)點,是分散工藝的首選。納米材料研磨分散設備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
1 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器
研磨分散機
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
CMD 2000/4
300
9,000
23
2.2
DN25/DN15
CMD 2000/5
1000
6,000
23
7.5
DN40/DN32
CMD 2000/10
3000
4,200
23
22
DN80/DN65
CMD 2000/20
8000
2,850
23
37
DN80/DN65
CMD 2000/30
20000
1,420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
60000
1,100
23
110
DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到***大允許量的10%。
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型和定制。
納米材料研磨分散機,德國納米材料研磨分散機
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