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CC氣墊漿料生產(chǎn)設(shè)備
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粉底研磨分散機(jī),粉底分散機(jī),粉底膠體磨是過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。本公司有成熟的技術(shù) 跟國內(nèi)一線品牌的化妝品公司都有合作 得到行業(yè)*人士的認(rèn)可,詳細(xì)生產(chǎn)工藝 價格及選型請咨詢公司銷售工程師 聶倩文 QQ ---
粉底視頻
粉底的研磨分散 粉體和酒精1:1 亞
粉底的研磨分散 粉體:水1:2
粉底是粉底是妝容的基礎(chǔ),粉狀質(zhì)地的粉底是***常見的,涂在臉上顯得輕柔自然,是日常妝的選擇。一般有粉底液、粉餅裝與散粉裝三種。進(jìn)行化妝時,人們總不忘給自己打一層粉底,因此,在某種程度上說,粉底是女人妝容的基礎(chǔ),如何打好這層基礎(chǔ),那就得對照于你的膚色了。任何顏色的粉底在選用的時候都不能脫離本身膚色,而試用也是在臉部皮膚上。
粉底
粉底的類型很多,粉底液、粉餅裝與散粉裝三種,這些粉底均用于調(diào)整膚色,改善面部質(zhì)感,遮蓋瑕疵,體現(xiàn)質(zhì)感,粉底的數(shù)值越大,顏色越深,使用時與膚色的色差不要過大,應(yīng)選擇與膚色接近的粉底。粉底液、粉餅裝與散粉裝成分并不盡相同,粉餅裝主要成份是顏料、油份、水份和色素,大多數(shù)是化學(xué)成份;而粉底液則會添加一些護(hù)膚成份,好的粉底更會添加植物成份,兼有較好的護(hù)膚功效。滑石粉:滑石粉可使其它粉底平滑地鋪展到皮膚上,并使皮膚滑爽。高嶺土和二氧化鈦:使粉底具有較強(qiáng)遮蓋力,并且可以消除滑石粉的閃光。硬脂酸鋅和肉豆慈酸鋅:具有較強(qiáng)的附著力。碳酸鈣和碳酸鎂:可吸收皮膚表面的汗液和油脂,也有消除滑石粉閃光的作用。顏料:一般是無機(jī)顏料和有機(jī)顏料混用。常用的無機(jī)顏料氧化鐵與紅色或橘黃色的有機(jī)顏料混合而成為粉底的顏料。粘合劑:使上述的各種粉底溶合成型。主要有動植物和液體石蠟等礦物油或合成的脂油構(gòu)成。其他成分:防腐劑、抗氧化劑和香料等。植物成份:如海藻萃取精華、山藥萃取物、維生素類、彈性蛋白、珍珠粉等,具有修護(hù)柔軟肌膚、保濕美白、增加肌膚彈力及光澤等功效。
粉底研磨分散機(jī)是
機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將多級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將多級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
1 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
CC氣墊高剪切膠體磨運(yùn)行原理:
CC氣墊高剪切膠體磨在電動機(jī)的高速轉(zhuǎn)動下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入高剪切破碎區(qū),通過一種特殊粉碎裝置,將流體中的一些大粉團(tuán)、粘塊、團(tuán)塊等大小顆粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎區(qū),在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強(qiáng)烈摩擦及研磨破碎等。在機(jī)械運(yùn)動和離心力的作用下,將已粉碎細(xì)化的物料重新壓入精磨區(qū)進(jìn)行研磨破碎,精磨區(qū)分三級,越向外延伸一級磨片精度越高,齒距越小,線速度越長,物料越磨越細(xì),同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方向速度瞬間發(fā)生變化,并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強(qiáng)烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等,在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后,從而產(chǎn)生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達(dá)到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細(xì)化的目的。液料的***小細(xì)度可達(dá)0.5um。
CMD2000系列BB霜膠體磨是專門CC氣墊膠體磨特別是那些需要很好乳化和分散效果的生產(chǎn)。CMD2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
BB霜膠體磨
☆ 高效、節(jié)能
傳統(tǒng)設(shè)備需8小時的分散加工過程,CM設(shè)備1小時左右完成,超細(xì)分散效果顯著,能耗*降低;
☆ 高速、高品質(zhì)
傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn),帶分散功能的轉(zhuǎn)速每分鐘1500轉(zhuǎn)以內(nèi),只完成宏觀分散加工,超細(xì)分散能力極為有限;CM設(shè)備的轉(zhuǎn)速每分鐘10000~15000轉(zhuǎn)之間,超高線速度產(chǎn)生的剪切力,瞬間超細(xì)分散漿料中的粉體。
依肯上海公司于德國公司長期保持良好合作 致力于研發(fā)生產(chǎn)高性能乳化機(jī) 分散機(jī) 均質(zhì)機(jī) 高剪切分散乳化機(jī) 膠體磨 研磨分散機(jī) 現(xiàn)應(yīng)用領(lǐng)域覆蓋全國的各種行業(yè) 我們有非常多的合作案例 如有需要詳細(xì)咨詢請致電 聶倩文
粉底研磨分散機(jī) 雅思蘭黛 粉底研磨分散機(jī)
型號
研磨分散機(jī)
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
CMD 2000/4
300
9,000
23
2.2
DN25/DN15
CMD 2000/5
3000
6,000
23
7.5
DN40/DN32
CMD 2000/10
8000
4,200
23
18
DN80/DN65
CMD 2000/20
20000
2,850
23
37
DN80/DN65
CMD 2000/30
40000
1,420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
120000
1,100
23
110
DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到允許量的10%。
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產(chǎn)品的要求。3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準(zhǔn)。 -
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