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    石墨烯NMP漿料生產設備

    產品型號: CMD2000
    品  牌: 依肯
    • ≧1 臺
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-12-16
    詳細信息
     類型:均質乳化機  效果:高剪切乳化機  適用場所:實驗室用  
     適用物料:化工 食品 藥品 醫(yī)藥乳品 化妝品  型號:CMD2000  料筒形狀:槽型  
     電機功率:2.2 kw 生產能力:0-1000 升/小時 主軸轉速:0-21000 r/min 
     固定方式:固定式  適用溫度:120 ℃ 品牌:依肯  

     

    石墨烯NMP研磨分散機,石墨烯NMP漿料生產設備,石墨烯NMP高剪切分散機,石墨烯NMP高剪切研磨機,石墨烯NMP漿料專用生產設備, 石墨烯油墨研磨分散機,石墨烯油墨生產設備,石墨烯油墨生產工藝,石墨烯高剪切研磨分散機,石墨烯剝離設備,石墨烯高剪切分散機,石墨烯分層設備

    石墨烯主要制備方法:
    制備石墨烯常見的方法為機械剝離法、氧化還原法、SiC外延生長法和化學氣相沉積法(CVD)。


    1.機械剝離法是利用物體與石墨烯之間的摩擦和相對運動,得到石墨烯薄層材料的方法。這種方法操作簡單,得到的石墨烯通常保持著完整的晶體結構,但是得到的片層小,生產效率低。

    2.氧化還原法是通過將石墨氧化,增大石墨層之間的間距,再通過物理方法將其分離,***后通過化學法還原,得到石墨烯的方法。這種方法操作簡單,產量高,目前國內使用氧化,還原法制作石墨烯漿料的,如:寧波墨
    稀、東莞鴻納、第六元素等企業(yè)

    3.SiC外延法是通過在超高真空的高溫環(huán)境下,使硅原子升華脫離材料,剩下的C原子通過自組形式重構,從而得到基于SiC襯底的石墨烯。這種方法可以獲得高質量的石墨烯,但是這種方法對設備要求較高

    4.CVD也叫氣相沉積法是目前***有可能實現(xiàn)工業(yè)化制備高質量、大面積石墨烯的方法。這種方法制備的石墨烯具有面積大和質量高的特點,國內用氣相沉積法制作石墨烯漿料的如  重慶墨稀、常州第六元素等企業(yè)

            前瞻產業(yè)研究院發(fā)布的《2014-2018年石墨烯項目可行性研究報告》指出石墨烯良好的電導性能和透光性能,使它在透明電導電極方面有非常好的應用前景。觸摸屏、液晶顯示、有機光伏電池、有機發(fā)光二極管等等,都需要良好的透明電導電極材料。特別是,石墨烯的機械強度和柔韌性都比常用材料氧化銦錫優(yōu)良;氧化銦錫脆度較高,比較容易損毀。在溶液內的石墨烯薄膜可以沉積于大面積區(qū)域。通過化學氣相沉積法,可以制成大面積、連續(xù)的、透明、高電導率的少層石墨烯薄膜,主要用于光伏器件的陽極,并得到高達1.71%能量轉換效率;與用氧化銦錫材料制成的元件相比,大約為其能量轉換效率的55.2%。作為新興產業(yè),前瞻網指出。石墨烯未來前途一片光明。

    關于石墨烯:

      石墨烯特殊的結構形態(tài),使其具備目前世界上***硬、***薄的特征,同時也具有很強的韌性、導電性和導熱性。這些及其特殊的特性使其擁有無比巨大的發(fā)展空間,未來可以應用于電子、航天、光學、儲能、生物醫(yī)藥、日常生活等大量領域!"十二五"期間中國石墨烯行業(yè)深度市場調研與投資戰(zhàn)略規(guī)劃分析報告》稱石墨烯集合世界上***優(yōu)質的各種材料品質于一身,故有業(yè)內人士如此評價:如果說20世紀是硅的世紀,石墨烯則開創(chuàng)了21世紀的新材料紀元,將給世界帶來實質性變化。

       石墨烯結構非常穩(wěn)定,迄今為止,研究者仍未發(fā)現(xiàn)石墨烯中有碳原子缺失的情況。石墨烯中各碳原子之間的連接非常柔韌,當施加外部機械力時,碳原子面就彎曲變形,從而使碳原子不必重新排列來適應外力,也就保持了結構穩(wěn)定。這種穩(wěn)定的晶格結構使碳原子具有優(yōu)秀的導電性。石墨烯中的電子在軌道中移動時,不會因晶格缺陷或引入外來原子而發(fā)生散射。由于原子間作用力十分強,在常溫下,即使周圍碳原子發(fā)生擠撞,石墨烯中電子受到的干擾也非常小。

          石墨烯***大的特性是其中電子的運動速度達到了光速的1/300,遠遠超過了電子在一般導體中的運動速度。這使得石墨烯中的電子,或更準確地,應稱為“載荷子”(electric  charge  carrier),的性質和相對論性的中微子非常相似。

          石墨烯有相當的不透明度:可以吸收大約2.3%的可見光。而這也是石墨烯中載荷子相對論性的體現(xiàn)。 

    石墨烯NMP漿料生產設備 
    在做納米粉體分散或研磨時,因為粉體尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當的研磨機來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關鍵技術
    。
        

        CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。 

    IKN石墨烯研磨設備采用德國先進的高速研磨分散技術,通過超高
    轉速(***高可達14000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉子(通常配CM+8SF,定轉子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流,在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質,從而得出超細的顆粒(當然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點可以得出理想的導電石墨烯漿料。

     

    技術及價格咨詢請來電上海依肯機械設備有限公司:聶倩文     QQ    --- ,公司有樣機可供客戶實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導!我司有著豐富的石墨烯研磨經驗,跟常州、無錫、長春、寧波、濰坊、深圳、廈門、東莞等地大型鋰電石墨烯、碳納米管生產企業(yè)有著深度合作。歡迎您的來電!

     

       CMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
      *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
      第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。
     CMD2000系列設備選型表

     

     

    型號

    流量
    L/H

    轉速
    rpm

    線速度
    m/s

    功率
    kw

    入/出口連接
    DN

    CMD2000/4

    300

    9000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD2000/5

    1000

    6000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD2000/10

    2000

    4200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD2000/20

    5000

    2850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD2000/30

    8000

    1420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    15000

    1100

    23

    11O

    DN200/DN150

     

     

     

    流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到***大允許量的10%。

    (詳情請接洽上海依肯,    聶倩文   )
    1.表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
    2.處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產品的要求。
    3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數,以便選型和定制。
    4.本表的數據因技術改動,定制而不符,正確的參數以提供的實物為準.

    技術及價格咨詢請來電:聶倩文       QQ   --- ,公司有樣機可供客戶實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導!我司有著豐富的石墨烯研磨經驗,跟常州、無錫、長春、寧波、濰坊、深圳、廈門、東莞等地大型鋰電石墨烯、碳納米管生產企業(yè)有著深度合作。歡迎您的來電!

     

     

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