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石墨烯水性漿料研磨設(shè)備
| 產(chǎn)品型號： |
CMSD2000 |
| 品 牌： |
ikn |
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| 所 在 地： |
上海松江區(qū) |
| 更新日期： |
2024-12-16 |
| | 型號：CMSD2000 | | 品牌：ikn | | 工作方式：顆粒研磨機 | |
| | 適用物料：石墨烯水性漿料 | | 應(yīng)用領(lǐng)域：化工 | | 加工批量：1000 | |
| | 驅(qū)動功率：22 kw | | 研磨籃容量：3000 | | 介質(zhì)尺寸：1000 | |
| | 行程：100 | | 外形尺寸：1-1-1 m | | 重量：200 kg | |
| | 驅(qū)動方式：電動 | | 作用對象：鋸刀 | | 重量：200 kg | |
石墨烯水性漿料研磨設(shè)備,石墨烯水性漿料研磨機,石墨烯水性漿料研磨分散機是
利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達到顆粒完全被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。
在做納米粉體分散或研磨時，因為粉體尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
石墨烯水性漿料 的三要素
石墨烯 分散技術(shù)三要素
二、分散劑用量推薦
三、石墨烯 分散劑概述
四、超聲波分散設(shè)備使用建議及分散實例
五、研磨分散設(shè)備使用建議
石墨烯 分散技術(shù)三要素：分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備
分散設(shè)備
（1）超聲波分散設(shè)備：非常適合實驗室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散石墨烯，用于中、高粘度介質(zhì)時會受到限制
（2）研磨分散設(shè)備：適合大規(guī)模地分散石墨烯,中粘度介質(zhì)分散石墨烯
（3）采用“先研磨分散、后超聲波分散”組合方法，可以高效、穩(wěn)定地分散石墨烯
石墨烯水性漿料研磨設(shè)備
研磨機機 和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國XX的高速研磨分散技術(shù)，通過超高
轉(zhuǎn)速（***高可達14000rpm）帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配CM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細的顆粒（當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。
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